产品名称 1400℃双温区管式气氛炉
产品型号 AFD-1400-2
工作温度 1300℃
高温度 1400℃(高温度可选1700℃)
炉管尺寸 Φ60*800mm
样品规格 外型尺寸：860×470×720mm （更多规格可根据用户需求定制）
温控系统 两个温控系统单控制，都是采用PID方式调节30段可编程自动控制
温控方式 30段PID微电脑可编程自动控制
控温精度 ± 1℃
温控保护 具有超温及断偶报警功能
加热速率 0~20 ℃ / 分
加热元件 1500ºC级硅碳棒
温区长度 每个加热区200 mm包括20mm间距，总温区长度: 400 mm
真空密封系统 仪器标配中有一套不锈钢真空密封法兰，和进气端都安装有不锈钢截止阀，真空度：10-2 torr （用机械泵 ）；10-5 torr（用分子泵 ）
工作电压 AC 220V 单项 50 Hz
大功率 8KW
净重 100KG
测温元件 S型单铂铑热电偶测温
气 密 性 4.03×10-3Pa
炉 管 高纯度刚玉炉管
这款管式炉以硅碳为加热元件，采用双层壳体结构和40段程序控温系统，移相触发、可控硅控制，炉膛采用1600型氧化铝多晶体纤维材料，管式炉双层炉壳间配有风冷系统，能快速升降温，采用99刚玉管、两端用不锈钢法兰密封，用浮子流量计控制进气流量、该炉具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点，是高校、科研院所、工矿企业做高温气氛烧结、气氛还原、真空退火用的理想产品.
AFD系列立式管式气氛炉的特设计能够实现在真空或气氛保护条件下对样品快速升降温，四面加热，温场更均匀，立式结构使得气体排放更加顺畅，炉体垂直安装在可移动支架上有利于炉管取放温度的均匀性，可以预抽真空并能通氢气、氩气、氮气、氧气、一氧化碳、氨分解气等气体，该炉具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点，特别适合薄膜生长、电极测试、氧化物晶体生长、快速退火等实验需要！
AFD-1400-60三温区真空气氛管式炉以硅碳棒为发热元件；双层风冷结构；高纯氧化铝纤维真空吸附一次成型；高密度硅碳棒真空挤压成型；刚玉管外径为60、80mm。三个温区分别由三个立的温控系统来控制且都为PID30段程序化控温。可通过调节三个温区的控温程序使炉管内温场形成一温度梯度，炉管两端装有不锈钢法兰，不锈钢法兰上安装有气嘴、阀门和压力表，抽真空时真空度能够达到10-3 Pa,此系列真空气氛管式炉可以用CVD或PVD方法来生长纳米材料和制作各种薄膜。
