AFD—50—17 真空管式高温炉以进口硅钼棒为发热元件，额定温度1700℃，采用B型双铂铑热电偶测温和宇电温控仪自动控温，具有较高的控温精度（±1℃）。此外该炉具有真空装置，可在多种气氛下工作，大大提高了其使用范围。该炉具有使用温度高、高精度控温、等优点。炉管材质采用耐高温的刚玉管，设计用于精密机械零件热处理、纳米结构的可控生长、氮化硅渡膜、陶瓷基片导电率测试、化工材料、陶瓷电容器气氛烧结、真空烧结等。管式炉采用高铝纤维制品隔热、保温，刚玉管炉膛,日本进口单回路智能32段（40段）程序温度控制仪控制，PID参数自整定，实现温度的控制。设备具有温度均匀、控制稳定、升温速度快、节能环保、使用温度高、寿命长、发热件更换方便、操作简单、维修方便等特点，是理想的科研设备，其性能达到国外同类产品的标准。
AFD三温区管式气氛炉以掺钼铁铬铝合金电阻丝为加热元件，三个加热区分别进行30段程序控温，移相触发、可控硅控制，炉膛采用氧化铝多晶纤维材料，可以预抽真空并能通氢气、氩气、氮气、氧气、一氧化碳、氨分解气等气体,具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点，是高校、科研院所、工矿企业做高温气氛烧结、气氛还原、CVD实验、真空退火用的理想产品。
AFD1200-50 1200℃迷你型真空气氛管式炉 采用双层壳体结构，炉膛材料采用高纯氧化铝，壳体两边安装有铝制散热器使得法兰温度小于80℃，内炉膛表面涂有1750℃进口氧化铝涂层材料提高反射率及炉膛洁净度。
适用范围：
主要应用于院校实验室、工矿企业实验室，应用于高、中、低温CVD工艺，如碳纳米管的研制，晶体硅基板镀膜，金属材料扩散焊接以及真空或气氛下的热处理等。
这款管式炉以硅碳为加热元件，采用双层壳体结构和40段程序控温系统，移相触发、可控硅控制，炉膛采用1600型氧化铝多晶体纤维材料，管式炉双层炉壳间配有风冷系统，能快速升降温，采用99刚玉管、两端用不锈钢法兰密封，用浮子流量计控制进气流量、该炉具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点，是高校、科研院所、工矿企业做高温气氛烧结、气氛还原、真空退火用的理想产品.
