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关 键 词：寮步纳米陶瓷镀钛
行 业：加工 模具加工
发布时间：2022-12-07
与标准的类金刚石(DLC)碳膜相比，Graphit-ic镀层在性能方面有显著的提高，不仅摩擦系数小，临界载荷大，由于镀层内不存在类金刚石(DLC)碳膜中有的sp3高温不稳定结构，使镀层的工作温度大幅提升，同时Cr元素的介入提高了石墨沿C轴轴向结合力，使镀层保持了优异的减磨特性。Graphit-ic镀层应用于不锈钢、铝、镁、钛等难加工金属可显著延长的使用寿命，特别是在水性介质中减磨特性优于DLC等多种硬镀层。
由于陶瓷粉料的颗粒大小决定了陶瓷材料的微观结构和宏观性能。如果粉料的颗粒堆积均匀，烧成收缩一致且晶粒均匀长大，那么颗粒越小产生的缺陷越小，所制备的材料的强度就相应越高，这就可能出现一些大颗粒材料所不具备的特性能。
复杂的形状都可以处理：如深孔、内管、细缝等。 CVD的优点：①镀膜温度太高，对基材和反应设备的耐热性要求很高，很多工件难以承受； ②高温使基材尺寸变化和变形严重，故适于精密度高的工件； ③对于要求工件局部镀膜，难以实现； ④活泼性气体源的使用，制程中有**、毒性气体泄漏等隐患，且对环境有污染。 TD简介（Thermal Diffusion Coating Process——热扩散法碳化物覆层处理）（1）在空气炉或盐槽中放入一个耐热的坩埚，将硼砂放入坩埚加热熔化至800~1200℃，然后加入相应的碳化物形成粉末（如钛、钡、铌、铬），再将钢或硬质合金工件放入坩埚中浸渍保温1~2小时，加入元素将扩散至工件表面并与钢中的碳发生反应形成碳化物层（如：VC—碳化钒；CrC—碳化铬），所得到的碳化物层具有很高的硬度和耐磨性。（2）TD*主要适合于以下铬钢的工件。
纳米陶瓷的制备工艺主要包括纳米粉体的制备、成型和烧结。纳米陶瓷粉体的制备方法多种多样，但应用较广且方法较成熟的主要有气相合成和凝聚相合成2种，再加上一些其它方法
纳米陶瓷主要有气相高温裂解法、喷雾转化法和化学气相合成法，这些方法较具实用性。化学气相合成法可以认为是惰性气体凝聚法的一种变型，它既可制备纳米非氧化物粉体，也可制备纳米氧化物粉体。这种合成法增强了低温下的可烧结性，并且有相对高的纯净性和高的表面及晶粒边界纯度。原料的坩埚中经加热直接蒸发成气态，以产生悬浮微粒和或烟雾状原子团。
电镀是一种电化学过程，也是一种氧化还原过程.电镀的基本过程是将零件浸在金属盐的溶液中作为阴，金属板作为阳，接直流电源后，在零件上沉积出所需的镀层。例如镀镍时，阴为待镀零件，阳为纯镍板，在阴阳分别发生如下反应： 阴(镀件)：Ni2++2e→Ni (主反应) 2H++2e→H2↑ (副反应) 阳(镍板)：Ni-2e→Ni2+ (主反应) 4OH-－4e→2H2O+O2 (副反应)
