一、烧结性能
1、炉膛容积：200*150*150mm
2、温度稳定性：±1℃
3、***高温度：1700℃
4、冲温值：≤1-3℃
5、升温速度：可以设定，一般60分钟内即可升到1400℃
6、炉膛材料：采用多晶复合纤维材料，具有真空成型，高温不掉粉的特征。外层采用陶瓷纤维棉，保温效果好，外壳不烫手。
7、整机真空度：1.33Pa
8、电源电压：380V
9、功率：0----36KW
10、加热元件：HRE
11、控制方式：程控、模糊PID调节、可控硅输出，PID参数自整定功能，手动/自动无干扰切换功能，超温报警功能，可编程序30段以上
13、重量轻，升温快，人性化设计
14、控制特点：控制系统模块化结构，设备关键部件长寿命设计，工艺简单可靠、稳定性好、精度高
15、配备真空机组（包括旋片式真空泵、罗茨真空泵、扩散泵、增压水泵、复合真空计等整套器件）
箱式气氛炉整个炉体采用双层内胆式结构，中间有气隙隔离，适用于电子陶瓷与高温结构陶瓷的烧结、玻璃的精密退火与微晶化、晶体的精密退火、陶瓷釉料制备、粉末冶金、纳米材料的烧结、金属零件淬火及一切需快速升温工艺要求的热处理。该炉配有通讯接口和软件，可以直接通过电脑控制炉子的各个参数，并能从电脑上观察到炉子上PV和SV温度值和仪表的运行情况，炉子的实际升温曲线电脑会实时绘出，并能把每个时刻的温度数据保存起来，随时可以调出。应用于电子元器件、新型材料及粉体材料的真空气氛处理,材料在惰性气氛环境下进行烧结。箱式气氛炉控制系统本电炉为冰箱式一体结构，控制系统安放在炉体下方，美观大方。仪表采用上海国龙温控表、温度控制采用PID自动控制、自动升温调节。
1700℃真空气氛箱式炉，主要为高等院校、科研院所、工厂企业等行业实验室提供高温热处理环境，可应用于金属材料、石墨材料、锂电材料、晶体材料等新材料领域。
二、 产品描述
AFD系列产品主要针对实验室的日常应用开发，的炉膛材料和稳定的温度控制系统，可保证实验数据的可靠性；产品采用新型陶瓷纤维材料作为炉膛材料，选用的硅钼棒发热元件作为发热体，温度控制器采用微电脑PID控制模块，可实现的控温和恒温要求。
炉膛尺寸：深100*宽100*高100mm
工作温度：1600℃
高温度：1700℃
升温速率：≤30℃/Min
控温精度：±1℃
加热元件：硅钼棒
热电偶：B型
工作电压：220V 50hz
功率：2Kw
外形尺寸：深430*宽473*高692mm
型号：AFD-6-12TP
