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但是目前的研究在反应层的产生与去除的细节问题上还不是很清晰，需要进一步深入研究，双面抛光机整个运动机构可看成为一个差动式的行星轮系，双面抛光的运动原理：在抛光开始前，没有通电源，中心轮与外齿圈都处于静止状态，此时工件也处于静止状态，抛光液通过上抛光盘3流入抛光区域，提供相应的磨削与润滑的效果，同时提供化学变化的材料，双面抛光加工时，上抛光盘的向下载荷由气缸6向下加压，同时在压力传感器7的实时监测下，实现压力的实时控制。
研磨液的颜色却多为黑色，黑灰色，属性不一样，研磨液有油性和水性之分，一般油性研磨效率高，水性易清洗，而抛光液则无水性油性之分，它只有一种属性，总之研磨液是用来研磨，抛光液是用来抛光，虽然使用过程中存在差异，但是工作原理和操作方式确实相同的，另外，两者也存在相辅相成的关系，一般的高精密双面抛光系统是由承载工件和下抛光盘的工作台、施加载荷的上抛光盘、带动工件旋转运动的行星轮以及供给抛光液的装置四大构件组成。
简单讲，研磨液就是在平面研磨机上做一道粗磨和第二道精磨时使用的液体，而抛光液是在第三道或者第二道精细抛光中才使用的，两者使用时间和工序不一样，研磨液是用来研磨，抛光液是用来抛光，具体来说，研磨液是用来将工件表面磨平整的，抛光液是用来提升工件表面光亮度的，其原理就是，在不断的化学变化中工件表面生成一种化学膜，同时由于旋转机械摩擦切除作用去除这一层化学膜，在不停地交替中获得超精密表面，这种超精密表面加工也被称为游离磨料的CMP。
