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但是在使用过程中，我们要充分的了解相关注意事项等，这样才能保障效果的顺利达到，每道打磨抛光应从难抛部位(如边角位，凹槽位)开始，尽量不要抛圆，边角位选择较硬的抛光工具进行抛光，每一种抛光工具仅能使用一种粒度的钻石膏并保存在无尘的容器中，每个盛载打磨或抛光工具的容器应只存放一种打磨抛光工具，每一道抛光应争取在较短时间内完成，抛光力度亦应随着抛光工具的硬度和钻石膏的粒度而调整，对于较幼的钻石膏，抛光压力应仅仅等于抛光工具的重量。
这道工序主要通过白布进行粗抛并导角的过程，那在这个过程中有三点要注意：一就是压重,压重太轻,铁盘的痕根本就抛不掉,具体压重量视工件硬度情况而定，二就是这产品要导角,那么需要在白布下面垫上一块软皮,这样有助于导角,但是软皮不能太软，在平面抛光机加工中，选择合理的运动方式以及抛光轨迹是极为重要的一步,抛光运动中较主要的是在于实现磨料的切削运动,因此运动状况的好坏，将会直接影响抛光加工时的精度以及生产的效率。
简单讲，研磨液就是在平面研磨机上做一道粗磨和第二道精磨时使用的液体，而抛光液是在第三道或者第二道精细抛光中才使用的，两者使用时间和工序不一样，研磨液是用来研磨，抛光液是用来抛光，具体来说，研磨液是用来将工件表面磨平整的，抛光液是用来提升工件表面光亮度的，其原理就是，在不断的化学变化中工件表面生成一种化学膜，同时由于旋转机械摩擦切除作用去除这一层化学膜，在不停地交替中获得超精密表面，这种超精密表面加工也被称为游离磨料的CMP。
