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PVD涂层的基本概念及其特点，PVD是英文“PhysicalVaporDeposition”的缩写形式，意思是物理气相沉积，我们现在一般地把真空蒸镀、溅射镀膜、离子镀等都称为物理气相沉积，较为成熟的PVD方法主要有多弧镀与磁控溅射镀两种方式，其中，因磨损引起的失效的产品（如：冲裁、冷镦、粉末成型等）涂层后可进步寿数倍以上；因咬合引起产品或模具的拉伤问题（如：引伸模、拉伸模、翻边模等），涂层后能够从根本上予以处理。
由于DLC具有极低的摩擦系数（0，00，和自润滑性，涂以DLC的刀具是干切削的较好选择，在有冷却液的切削条件下，DLC涂层刀具的切削力比没有涂层刀具和其它涂层刀具下降%，而且被加工的金属表面粗糙度下降Ra0，溅射镀膜基本原理：充氩(Ar)气的真空条件下，使氩气进行辉光放电，这时氩(Ar)原子电离成氩离子(Ar)，氩离子在电场力的作用下，加速轰击以镀料制作的阴极靶材，靶材会被溅射出来而沉积到工件表面。
真空镀钛应用效果，紧密冲压模具经真空镀钛涂覆后外貌可拥有极低的摩擦系数，淘汰加工受力，模具经镀钛涂覆后外貌硬度可提高到倍，可大幅淘汰外貌磨耗，特别是用于高紧密加工时可得到很是优异的外貌质量，蒸发镀膜与真白手套箱组合，实现蒸镀、封装、测试等工艺全关闭建造，使整个薄膜发展和器件制备进程高度集成在一个完整的可控情况气氛的系统中，消除有机大面积电路制备进程中大气情况中不不变因素影响，保障了高机能、大面积有机光电器件和电路的制备。
