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PVD涂层的基本概念及其特点，PVD是英文“PhysicalVaporDeposition”的缩写形式，意思是物理气相沉积，我们现在一般地把真空蒸镀、溅射镀膜、离子镀等都称为物理气相沉积，较为成熟的PVD方法主要有多弧镀与磁控溅射镀两种方式，其中，因磨损引起的失效的产品（如：冲裁、冷镦、粉末成型等）涂层后可进步寿数倍以上；因咬合引起产品或模具的拉伤问题（如：引伸模、拉伸模、翻边模等），涂层后能够从根本上予以处理。
再加上刀具、模具涂层售后服务的欠缺，到目前为止，国内大多数涂层设备厂家都不能提供完整的刀具涂层工艺技术(包括前处理工艺、涂层工艺、涂后处理工艺、检测技术、涂层刀具和模具的应用技术等)，而且，它还要求工艺技术人员，除了精通涂层的专业知识以外，还应具有扎实的金属材料与热处理知识、工模涂层前表面预处理知识、刀具、模具涂层的合理选择以及上机使用的技术要求等，如果任一环节出现问题，都会给使用者产生使用效果不理想这样的结论。
真空镀钛应用效果，紧密冲压模具经真空镀钛涂覆后外貌可拥有极低的摩擦系数，淘汰加工受力，模具经镀钛涂覆后外貌硬度可提高到倍，可大幅淘汰外貌磨耗，特别是用于高紧密加工时可得到很是优异的外貌质量，蒸发镀膜与真白手套箱组合，实现蒸镀、封装、测试等工艺全关闭建造，使整个薄膜发展和器件制备进程高度集成在一个完整的可控情况气氛的系统中，消除有机大面积电路制备进程中大气情况中不不变因素影响，保障了高机能、大面积有机光电器件和电路的制备。
