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而且，薄膜表面开始变朦，多弧镀另一个不足之处是，由于金属是熔后蒸发，因此沉积颗粒较大，致密度低，耐磨性比磁控溅射法成膜差，可见，多弧镀膜与磁控溅射法镀膜各有优劣，为了尽可能地发挥它们各自的优越性，实现互补，将多弧技术与磁控技术合而为一的涂层机应运而生，在工艺上出现了多弧镀打底，然后利用磁控溅射法增厚涂层，较后再利用多弧镀达到较终稳定的表面涂层颜色的新方法，大约在八十年代中后期，出现了热阴极电子枪蒸发离子镀、热阴极弧磁控等离子镀膜机，应用效果很好，使TiN涂层刀具很快得到普及性应用。
到了上世纪七十年代末，开始出现PVD(物理气相沉积)技术，为真空涂层开创了一个充满灿烂前景的新天地，之后在短短的三十年间PVD涂层技术得到迅猛发展，究其原因，是因为其在真空密封的腔体内成膜，几乎无任何环境污染问题，其中热阴极电子枪蒸发离子镀，利用铜坩埚加热融化被镀金属材料，利用钽灯丝给工件加热、除气，利用电子枪增强离化率，不但可以得到厚度m的TiN涂层，而且其结合力、耐磨性均有不俗表现，甚至用打磨的方法都难以除去。
真空镀钛应用效果，紧密冲压模具经真空镀钛涂覆后外貌可拥有极低的摩擦系数，淘汰加工受力，模具经镀钛涂覆后外貌硬度可提高到倍，可大幅淘汰外貌磨耗，特别是用于高紧密加工时可得到很是优异的外貌质量，蒸发镀膜与真白手套箱组合，实现蒸镀、封装、测试等工艺全关闭建造，使整个薄膜发展和器件制备进程高度集成在一个完整的可控情况气氛的系统中，消除有机大面积电路制备进程中大气情况中不不变因素影响，保障了高机能、大面积有机光电器件和电路的制备。
