价格：面议
0
联系人：
电话：
地址：
光刻胶分类
正性光刻胶和负性光刻胶
光刻胶可依据不同的产品标准进行分类。按照化学反应和显影的原理，光刻胶可分为正性光刻胶和负性光刻胶。如果显影时未曝光部分溶解于显影液，形成的图形与掩膜版相反，称为负性光刻胶;如果显影时曝光部分溶解于显影液，形成的图形与掩膜版相同，称为正性光刻胶。
在实际运用过程中，由于负性光刻胶在显影时容易发生变形和膨胀的情况，一般情况下分辨率只能达到 2 微米，光刻胶供应商，因此正性光刻胶的应用更为广泛。
光刻胶介绍
光刻胶可分为半导体光刻胶、面板光刻胶和PCB光刻胶。其中，半导体光刻胶的技术壁垒较高。
从技术水平来看，在PCB领域，国产光刻胶具备了一定的技术和量产能力，正向光刻胶供应商，已经实现对主流厂商大批量供货。
赛米莱德以诚信为首 ，服务至上为宗旨。公司生产、销售光刻胶，公司拥有强大的销售团队和经营理念。想要了解更多信息，赶快拨打图片上的热线电话！
光刻胶
在曝光过程中，正性胶通过感光化学反应，切断树脂聚合体主链和从链之间的联系，半导体光刻胶供应商，达到削弱聚合体的目的，所以曝光后的光刻胶在随后显影处理中溶解度升高。曝光后的光刻胶溶解速度几乎是未曝光的光刻胶溶解速度的10倍。而负性胶，在感光反应过程中主链的随机十字链接更为紧密，并且从链下坠物增长，所以聚合体的溶解度降低。见正性胶在曝光区间显影，负性胶则相反。负性胶由于曝光区间得到保留，漫射形成的轮廓使显影后的图像为上宽下窄的图像，正负光刻胶供应商，而正性胶相反，为下宽上窄的图像。
想要了解更多光刻胶的相关信息，欢迎拨打图片上的热线电话！
