锦州水基清洗IGBT案例 合明科技 半导体封装清洗
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关 键 词:锦州水基清洗IGBT案例
行 业:化工 化学试剂
发布时间:2022-06-08
在当今电子器件、组件的工艺制程中,为获得高可靠性的产品,清洗,特别是水基清洗在制程中得到越来越广泛的应用。特别是在5G通讯,航天航空,汽车电子,,设备,人工智能等等行业和产业产品中,高可靠性的要求是为了保证整个功能体系能安全可靠运行的基础。水基清洗在这类器件、组件的制程中具有突出的代表性,特别在大型规模化生产中,可有效保障更为可靠的工艺指标和稳定性。通常会采用在线通过式清洗工艺来实现器件和组件的批量生产制程,随着在线工艺的广泛应用,其中的工艺要点和掌握是能保证出产产品质量的重要因素。以下就这些要点作几点阐述。
从传统的溶剂型清洗转入半水基清洗,合明需提醒的是由于清洗机理不同,对超声波的选型会有区别。溶剂型一般选用中低频的超声波,而半水基则选择中高频的超声波。同时,半水基清洗工艺需配合清洗温度和清洗时间来保障清洗效果。清洗设备需吻合半水基清洗工艺的要求,包括超声频率、清洗和漂洗的功能设置,半水基清洗工艺不宜套用溶剂清洗的工艺。选定水基清洗工艺后,设备必须满足水基工艺,清洗材料与设备相辅相成,才能达到良好的清洗效果。
由于使用需要清洗和处置含铅溶剂废物的助焊剂会导致环境问题,因此免清洗助焊剂的使用正在增加。但我们还需要切记,免清洗助焊剂不如其他类型助焊剂的活性高,因此,除非公司内部以及零部件和PCB供应商采取适当步骤,否则焊接结果可能会低于预期。
功率的选择
根据清洗的产品不同超声清洗效果不一定与功率的大小成正比,一般情况下功率大,清洗过程中空化强度将大大增加,清洗效果是提高了,但这时会使较精密的元器件也产生其他影响。但使用小功率,花很长时间也没有清除污垢。如果功率达到一定数值,有时很快便将污垢去除,因此要按具体产品情况以及机器槽体的大小来选择合适的超声功率。
清洗液温度的选择
根据客户的需求选择适用合适温度的清洗剂。选用的清洗剂不同使用的温度也不尽相同;一般水基清洗剂使用适宜的清洗温度为50-60℃左右,温度高超声波清洗的效率高、效果好。
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