价格：369000.00起
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产品概述
多通道高真空（可做低真空）PECVD系统，由管式炉，等离子射频电源，分子泵真空系统，多通道气路等组成的等离子化学气相沉积系统；额定温度可以达到1700度，混气系统流量调节可由质量流量计控制（可选浮子流量计），混气路数有2路，3路，4路，5路等相混合，可以将多种气体进行均匀地混气后导入到管式炉内。
产品用途
系统多应用于纳米材料生长，石墨烯生成，金属薄膜，陶瓷薄膜，复合薄膜等各种薄膜材料，可制备出高质量的透明导电膜，用作手机触摸屏，平板电脑，传感器，智能穿戴等领域；亦常用于沉积高质量、SiO2薄膜、Si3N4薄膜、金刚石薄膜、硬质薄膜、光学薄膜和炭纳米管（CNT）、石墨烯材料等；
技术参数
产品名称 高真空（低真空）PECVD系统
产品型号 GKD-PECVD
管式炉部分
电 源 220V 50Hz（电压可定制）
功 率 4kw
额定温度 1200℃（可做1400℃或1700℃）
工作温度 1100（1300℃或1600℃）
升温速率 0-20℃/min
加热区长度 400mm（可根据客户需求定制）
多温区 支持
控温方式 PID智能微电脑可编程程序控制
控温精度 ±1℃
加热元件 高纯含钼电阻丝
炉管尺寸 φ60x1400mm（其他尺寸详见设备常规尺寸表）
测温方式 K型热电偶
炉管材质 石英管（大于1200℃用高纯刚玉管）
炉膛材料 一层: 1800型多晶氧化铝陶瓷纤维。保证炉膛足够的强度，又确保具有很好的隔热效果。
二层: 1430型多晶氧化铝陶瓷纤维。
三层: 保温棉若干
温控保护 具有超温，超压保护和断电预警功能
密封系统 炉管两端配置不锈钢密封法兰，法兰上安装有机械压力表和不锈钢截止阀
选配 辅助降温风扇
等离子电源系统
名称 500w等离子电源
供电电压/频率 单相交流（187V-253V）50-60Hz
功率范围 0-500w（连续可调）
工作模式 连续输出
工作频率 13.56MHZ+0.005%
最大反射功率 70w
功率稳定度 ≤2w
射频输出阻抗接口 N-type，female（50Ω）
认证 CE
冷却方式 风冷
控制方式 多通道质量流量计，采用触屏控制，数字显示，自动控制
流量范围 0-1000sccm可调
混气装置 1个混气罐
阀门位置 N个不锈钢针阀安装在供气系统的左侧，可手动控制N种气体
进出气口 N进一出
流量控制 手动旋转调节
连接方式 双卡套连接
真空系统
名称 真空系统
主要参数
1，采用高真空分子泵机组，冷态真空度可以达到10^-4Pa，
2，KF25快捷，不锈钢波纹管，手动挡板阀与法兰、真空泵相连
3，数字式真空计显示，其测量范围可达5x10^-5~1500mbar，测量准确度好
质保期 整机1年质保，终身维护
耗材 炉管，密封圈，热电偶，加热元件
设备常规尺寸
炉管直径 加热区长度 功率
60mm 300mm 3 KW
80mm 300mm 5 KW
100mm 300mm 5 KW
120mm 300mm 6 KW
40mm 400mm 3 KW
60mm 400mm 3 KW
80mm 400mm 5 KW
100mm 400mm 5 KW
120mm 400mm 6 KW
注：其他规格尺寸或要求可按要求定制。
