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行 业：机床 机床加工合作 环保设备加工
发布时间：2021-12-27
光学微电子净化工程净化参数换气次数：100000级≥15次；10000级≥20次；1000≥30次。压差：主车间对相邻房间≥5Pa平均风速：10级、100级0.3-0.5m/s；温度冬季gt;16℃；夏季lt;26℃；波动±2℃。温度45-65%；GMP剂车间湿度在50%左右为宜；电子车间湿度略高以免产生静电。噪声≤65dB(A)；新风补充量是总送风量的10%-30%；照度300LX。
提高设备水平设备材料、加工精度、密封程度和管理制度都与交叉污染有关。因此，除了合理布局外，万级净化车间，提高设备的自动化水平，形成一条联动生产线，以减少操作人员，减少人员活动的频率，是防止交叉污染的必要措施。粉尘产生了大量的交叉污染。当出现大量粉尘时，可选保护罩或承载除尘装置去除。其次，要采取隔离措施，将其分为手术室前室或手术室和辅助用房。前室被设置在一个平面内，一般使用一个单独的单室，辅助室可以在非清洁区域提供，在走廊侧检修门。对于没有辅助设备的不密封的单个灰尘，排气可以通过过滤分离，然后返回到区域隔离区域，即自循环。
光学微电子行业净化工程设计方案分析对于常规电子厂房洁净室空调的设计，净化车间，应根据电子厂房的生产工艺要求及甲方的经济条件来选用哪种空调设计方案，以满足生产工艺的要求作为前提。根据以往经验，对于要求高的可以选用组合式空气处理机组集中处理的空调方案；对于要求不高的，又要初投资低的，可以选用柜机 FFU。总之，具体的方案选择根据具体情况而定。
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