icp光谱仪行业 ICP光谱用于测定什么
价格：面议
由钢研纳克承担的国家重大科学仪器设备开发专项“ICP痕量分析仪器的研制与应用”取得重要进展。本专项开发内容包括二维全谱高分辨ICP光谱仪和ICP质谱仪。目前二维全谱高分辨ICP光谱仪已解决了大面积CCD采集的瓶颈问题，接近于商品水平的产品样机将于年内完成；ICP质谱仪第二代研发样机已成功组装和调试，采集到正确的谱图，这一突破标志着在第二代样机上采用的自主设计的高真空系统、接口及离子传输系统以及射频发生器系统3个关键、难点技术已经实现原理攻克。为高质量、按期完成项目任务和本单位新产品开发任务奠定了坚实的基础。
钢研纳克Plasma1500 固态光源单道扫描ICP光谱仪
Plasma1500型电感耦合等离子发射光谱仪是钢研纳克研发的单道扫描型电感耦合等离子体发射光谱仪。在继承钢研纳克的Plasma1000型单道扫描ICP-OES优能的基础上，结合国内外单扫描型ICP-OES前沿技术，研发制造了新一代单扫描电感耦合等离子体发射光谱仪。大面积高刻线密度平面全息光栅，Czerny-Turner 结构光学系统，拥有通光量大，分辨率高的特点。双光栅设计使得整个波长分布范围内均具有极高光谱分辨率。稳定的固态射频发生器，体积小巧，匹配速度快，确保仪器的高精度运行及优异的长期稳定性。双通道高灵敏PMT 检测器，宽动态范围信号处理技术，具有优异的检测能力。紫外光谱范围内自动切换使用紫外PMT。功能强大的软件系统，简化分析方法的开发过程，为用户量身打造简洁、舒适的操作体验。可广泛应用于冶金、地质、材料、环境、食品、医药、石油、化工、生物、水质等各领域的元素分析。
Plasma 2000 技术特点
1. 优异的光学系统
2. 固态射频发生器，体积更加小巧
3. 流程自动化，状态及自动保护
4. 科研级检测器，极高的紫外量子化效率
5. 强大分析谱线
6. 信息直观丰富
7. 多窗口多方法
8. 编辑功能强大
9. 智能谱图标定
10. 智能干扰矫正
钢研纳克双向观测Plasma 3000 ICP光谱仪分光系统
Plasma 3000ICP光谱仪采用径向观测与轴向观测设计，适应亚ppm到高含量的元素测量。 中阶梯光栅与棱镜交叉色散结构，使用CaF2棱镜，提高光路传输效率。 优化的光学设计，采用非球面光学元件，改善成像质量，提高光谱采集效率。 光室气体氛围保持技术，缩短光室充气时间，提高紫外光谱灵敏度及稳定性，开机即可测量。 包围式立体控温系统，保障光学系统长期稳定无漂移。
光源
固态射频发生器，稳定，体积小巧，效率高，匹配速度快，钢研纳克Plasma 3000 ICP光谱仪能适应各种复杂基体样品及挥发性的测试，均能获得优异的长期稳定性。 垂直炬管的设计，具有更好的样品耐受性，减少了清洁需求，降低了备用炬管的消耗。 冷锥消除尾焰技术，地降低自吸效应和电离干扰，从而获得更宽的动态线性范围和更 低的背景，保证准确的测量结果。 具有绿色节能待机模式，待机时降低输出功率，减小气体流量，仅维持等离子体运行，节约使用成本。
简洁的炬管安装定位设计，快速定位，的位置重现。 实时仪器运行参数，高性能CAN工业现场总线，保障通讯可靠。
进样系统
简洁的炬管安装设计，自动定位炬管位置，的位置重现。钢研纳克Plasma 3000 ICP光谱仪配备系列经过优化的进样系统，可用于、高盐/复杂基体样品、含氢氟酸（HF） 等样品的测试。
使用可拆卸式或一体式炬管，易于维护，转换快速，使用成本低。Plasma 3000 ICP光谱仪使用质量流量控制器控制冷却气、气和载气的流量，保障测试性能长期稳定。 多通道12滚轮蠕动泵，提升样品导入稳定性。
检测器
大面积背照式CCD检测器,全谱段响应，高紫外量子化效率，抗饱和溢出，具有极宽的动态范 围和极快的信号处理速度。 一次曝光，完成全谱光谱信号的采集读取，从而获得更为快速、准确的分析结果。Plasma 3000 ICP光谱仪具有同类产品中靶面尺寸，百万级像素，单像素面积24μm X 24μm，半导体制冷,制冷温 度 低，具有更低的噪声和更好的稳定性。
软件系统
人性化的界面设计，流畅易懂，简便易用，针对分析应用优化的软件系统，无须复杂的方法开发， 即可快速开展分析操作。
丰富的谱线库，智能提示潜在干扰元素，帮助用户合理选择分析谱线。 轻松的观测方式设置，直观的测试结果显示。
安全防护
电磁屏蔽，减少电磁辐射 连锁门保护，避免用户误操作可能带来的风险 防紫外观测窗
