产品规格：
产品数量：
包装说明：
关 键 词：全谱icp发射光谱仪原理
行 业：仪器仪表 分析仪器 元素分析仪器
发布时间：2021-11-14
钢研纳克Plasma 2000 全谱ICP光谱仪参数
1. 光学系统：中阶梯二维分光光学系统，焦距400mm
2. 谱线范围：165nm~900nm，光学分辨率：0.007nm（200nm处）
3. 光栅规格：中阶梯光栅，52.67刻线/毫米，尺寸：100mm x 50mm
4. 晶体管固态射频发生器，小巧
5. 40.68MHz频率提高信噪比，改善了检出限
6. 自动匹配调节
7. 全组装式炬管，降低了维护成本
8. 计算机控制可变速10滚轴四道或两道蠕动泵，具有快速清洗功能
9. 实验数据稳定性良好：重复性 RSD ≤0.5% (1mg/L) （n=10）；稳定性：RSD ≤2.0%（大于3小时）
钢研纳克Plasma 2000电感耦合等离子体发射光谱仪ICP-AES测定电池级碳酸锂中的17种杂质元素
碳酸锂是锂离子电池制造必不可少的原料，随着锂电行业快速发展，生产企业对电池级碳酸锂杂质的控制也越来越严格，依据标准YS/T 582-2013《电池级碳酸锂》规定，碳酸锂含量应≥99.5%，因此，对碳酸锂中杂质元素的准确测定是十分重要的。本方法采用国产ICP光谱仪——钢研纳克江苏检测技术研究院有限公司Plasma 2000型电感耦合等离子体发射光谱仪，测定了电池级碳酸锂中的17种杂质元素，结果令人满意。
实验过程
1.1
仪器配置
观测方式：径向观测，分析参数见表1
进样系统：旋流雾化室、耐高盐雾化器、耐高盐炬管
分光系统：中阶级光栅与棱镜交叉色散结构，结合大面积CCD，实现“全谱瞬态直读”
1.2
实验条件
表1 仪器工作参数
1.3
实验方法
准确称取2.5000g碳酸锂样品于100mL烧杯中，加入适量高纯水，缓慢加入5mL硝酸,加热溶解后，冷却至室温，转移定容至50mL容量瓶待测。
分析结果
2.1
线性相关系数
本实验采用标准加入法进行测定。各元素的相关系数（见表2）均在0.999以上。
表2 线性相关系数
2.2
分析谱线
各元素的推荐分析谱线见表3。
表3 推荐分析谱线
2.3
方法检出限
在上述选定的工作条件下,重复测量空白溶液 11次, 以空白测定标准偏差的 3倍计算各元素的检出限,结果列于表4。
表4 检出限
2.4
加标回收率
对碳酸锂样品进行了加标回收率试验及精密度试验（见表5）,各元素的回收率均在94%-108%之间。
表5 加标回收率及精密度（n=11）
2.5
样品测试结果
表6 测定结果
*备注：
1.行业标准参照YS/T 582-2013《电池级碳酸锂》
2.“——”表示行业标准未要求
3. 括号中为样品实际检测值
结论
本文使用Plasma2000型全谱电感耦合等离子体发射光谱仪测定碳酸锂中的杂质元素，通过计算检出限、回收率和精密度，分析结果准确，仪器性能稳定，可用于电池级碳酸锂中Al、Ba、Ca、Cr、Cu、Fe、K、Mg、Mn、Na、Ni、Pb、Rh、Sr、V、Zn、Si等杂质元素的分析测定。
钢研纳克双向观测Plasma 3000 ICP光谱仪分光系统
Plasma 3000ICP光谱仪采用径向观测与轴向观测设计，适应亚ppm到高含量的元素测量。 中阶梯光栅与棱镜交叉色散结构，使用CaF2棱镜，提高光路传输效率。 优化的光学设计，采用非球面光学元件，改善成像质量，提高光谱采集效率。 光室气体氛围保持技术，缩短光室充气时间，提高紫外光谱灵敏度及稳定性，开机即可测量。 包围式立体控温系统，保障光学系统长期稳定无漂移。
光源
固态射频发生器，稳定，体积小巧，效率高，匹配速度快，钢研纳克Plasma 3000 ICP光谱仪能适应各种复杂基体样品及挥发性的测试，均能获得优异的长期稳定性。 垂直炬管的设计，具有更好的样品耐受性，减少了清洁需求，降低了备用炬管的消耗。 冷锥消除尾焰技术，地降低自吸效应和电离干扰，从而获得更宽的动态线性范围和更 低的背景，保证准确的测量结果。 具有绿色节能待机模式，待机时降低输出功率，减小气体流量，仅维持等离子体运行，节约使用成本。
简洁的炬管安装定位设计，快速定位，的位置重现。 实时仪器运行参数，高性能CAN工业现场总线，保障通讯可靠。
进样系统
简洁的炬管安装设计，自动定位炬管位置，的位置重现。钢研纳克Plasma 3000 ICP光谱仪配备系列经过优化的进样系统，可用于、高盐/复杂基体样品、含氢氟酸（HF） 等样品的测试。
使用可拆卸式或一体式炬管，易于维护，转换快速，使用成本低。Plasma 3000 ICP光谱仪使用质量流量控制器控制冷却气、气和载气的流量，保障测试性能长期稳定。 多通道12滚轮蠕动泵，提升样品导入稳定性。
检测器
大面积背照式CCD检测器,全谱段响应，高紫外量子化效率，抗饱和溢出，具有极宽的动态范 围和极快的信号处理速度。 一次曝光，完成全谱光谱信号的采集读取，从而获得更为快速、准确的分析结果。Plasma 3000 ICP光谱仪具有同类产品中靶面尺寸，百万级像素，单像素面积24μm X 24μm，半导体制冷,制冷温 度 低，具有更低的噪声和更好的稳定性。
软件系统
人性化的界面设计，流畅易懂，简便易用，针对分析应用优化的软件系统，无须复杂的方法开发， 即可快速开展分析操作。
丰富的谱线库，智能提示潜在干扰元素，帮助用户合理选择分析谱线。 轻松的观测方式设置，直观的测试结果显示。
安全防护
电磁屏蔽，减少电磁辐射 连锁门保护，避免用户误操作可能带来的风险 防紫外观测窗
钢研纳克 Plasma2000 全谱ICP光谱仪
Plasma2000电感耦合等离子体发射光谱仪是钢研纳克在首批“国家重大科学仪器设备开发专项”支持下研发的二维全谱高分辨ICP光谱仪，是国产全谱ICP光谱仪革命性产品，曾斩获中国仪器仪表行业协会“自主创新金奖”等一系列荣誉，在业界获得广泛的好评。美观精致的高颜值工业设计，优异稳定的测试性能源于纳克近四十年ICP行业经验。Plasma2000拥有
1、中阶梯光栅与棱镜交叉色散结构，径向观测，具有稳健的检测能力。
2、 稳定的自激式固态射频发生器，体积小巧，匹配速度快，确保仪器的高精度运行及优异的长期稳定性。
3、 高速面阵CCD采集技术，单次曝光获取全部谱线信息，真正实现“全谱直读”。
4、 功能强大的软件系统，简化分析方法的开发过程，为用户量身打造简洁、舒适的操作体验。
可广泛应用于冶金、地质、材料、环境、食品、医药、石油、化工、生物、水质等各领域的元素分析。
