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光催化氧化技术利用光激发氧化将O2、H2O2等氧化剂与光辐射相结合。所用光主要为紫外光，包括uv-H2O2、uv-O2等工艺，可以用于处理污水中CCl4、等难降解物质。另外，在有紫外光的Fenton体系中，紫外光与铁离子之间存在着协同效应，使H2O2分解产生羟基自由基的速率大大加快，促进有机物的氧化去除。
通过光催化氧化可直接将空气中的有毒有害气体完全氧化成无毒无害的物质以及杀死各类病毒，真正实现了清洁生产要求的低能耗工艺设计，不留任何二次污染。
光催化氧化装置利用人工紫外线灯管产生的紫外线光波作为能量来活化光催化剂，催化剂在获取能量后驱动氧化——还原反应，而且催化剂在反应过程中并无任何消耗，利用空气表面中的水份和氧气作为氧化剂，有效的降解有毒有害有味气体和杀死病毒成为光催化氧化技术有效净化节约能源的大亮点。
半导体光催化具有氧化性极强的特点，对臭气难以氧化的某些有机物如、、都能有效的加以氧化分解，终还原成H2O和CO2，所以对难以降解的有机物具有特别的意义，光催化的有效氧化剂是氢氧自由基（OH-），（OH-）的氧化性高于常见的臭氧、双氧水、次氯酸等。
适应性强，光催化氧化装置对从烃到羧酸的种类众多有机物都有效果，即使对原子有机物理如卤化烃、染料、含氨有机物、有机磷也有很好的去除效果，只要达到一定的反应时间和反应环境配比即可达到原全氧化，可以说氢氧自由基的氧化对象几乎没有选择性，能跟任何现有物质反应。
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