箱式气氛炉整个炉体采用双层内胆式结构，中间有气隙隔离，适用于电子陶瓷与高温结构陶瓷的烧结、玻璃的精密退火与微晶化、晶体的精密退火、陶瓷釉料制备、粉末冶金、纳米材料的烧结、金属零件淬火及一切需快速升温工艺要求的热处理。该炉配有通讯接口和软件，可以直接通过电脑控制炉子的各个参数，并能从电脑上观察到炉子上PV和SV温度值和仪表的运行情况，炉子的实际升温曲线电脑会实时绘出，并能把每个时刻的温度数据保存起来，随时可以调出。应用于电子元器件、新型材料及粉体材料的真空气氛处理,材料在惰性气氛环境下进行烧结。箱式气氛炉控制系统本电炉为冰箱式一体结构，控制系统安放在炉体下方，美观大方。仪表采用上海国龙温控表、温度控制采用PID自动控制、自动升温调节。
AFD系列气氛炉广泛应用于实验室、工矿企业、科研单位的前期实验，还原气氛、惰性气氛、氢氮混合气氛等多种类型，额定温度分别为1100℃、1300℃、1500℃、1600℃、1700℃，根据不同的气氛，不同的温度，使用不同的加热元件，型号齐全，安全可靠，同时也可满足于不同工艺实验而制造。
气氛炉日常中应该如何进行保养操作：
1、定期检查各接线头接触是否良好。
2、根据工艺设定温度，通电加温、保温。
3、通过调查流量和控制出水口温度在40℃cgh。
4、车间须配备1/2管以水源后力达0.2MPa。
5、接通充气口充入CO2及其它保护气体，当气氛炉压力表指示在0.02～0.04MPa时，停止充气。
6、保持炉膛清洁，对炉内的金属氧化物，炉渣和杂质等应及时清除。装卸工件时应谨慎，以防碰坏硅钼棒。
7、当炉温升高，应随时注意，压力长，间断打开放气阀门，使炉胆内的压力在0.1MPa以下，这时胆的油烟等杂质可随之排出。
8、硅钼棒碱、碱金属、硅酸及硼化合物在高温下对它能起腐蚀作用，水蒸气对它有强烈的氧化影响，氢及含有大量氢的气体在高温时会分解硅钼棒，使用时必须严加注意。
9、气氛炉实行光亮退火，在升温时打开放气阀，随后充入保护气体，流量由小变大，当气氛炉炉内压力为正压时，即关闭全部阀门，此工艺应经工艺试验，
10、使用时不得超过额定功率，能正确的安装与保养吗气氛炉炉温不得超过高使用温度。禁止将潮湿工件装入炉膛内，含有过高水份的被加热工件应预先烘干。
主要特点：双层炉壳结构稳定，并带有水冷系统，保持腔体内部正压可达1MP和负压可达-0.1MP
炉体上端安装有机械压力表，右侧安装有一个浮子流量计
耐腐蚀性强的进口陶瓷纤维制品
静音电子继电器并配有安全防爆系统
标准配置数字式PID控制器，可调节升温曲线、保温温度和保温时间
的拱形炉顶设计，经久耐用、不垮塌
超温报警并断电，漏电保护，操作安全可靠
侧开式炉门，易于样品装载，可加装通气口，可在氧气或惰性气氛下操作壳体结构
两侧加热确保高度均匀的温度分布（保护气操作作为额外配置）
炉膛内部温度稳定度<±5℃
产品特点：
1、真空气氛炉以硅碳棒为加热元件，炉体采用双层炉壳结构，双层风冷系统，可以快速升降温，炉壳表面温度低；
2、炉门、炉顶采用高温硅橡胶密封，炉门配备水冷系统。炉体上有进气口、口、抽真空口。
3、炉膛材料采用的进口氧化铝多晶纤维真空吸附制成，节能50%，加热元件采用硅碳棒。
4、电炉温度控制系统采用人工智能调节技术，具有PID调节、模糊控制、自整定能力并可编制各种升温程序等功能，该控制系统温度显示精度为 1℃，温场稳定度±5℃，升温速率1~20℃可任意置。
5、可以通氢气、氩气、氮气等其他气体，并能预抽真空，真氛压力可以达到0.1Mpa,炉体采用厚钢板加工而成，安全可靠，符合国家标准。
适用范围：
真空气氛炉满足于不同工艺实验而制造，适用于电子陶瓷与高温结构陶瓷的烧结、玻璃的精密退火与微晶化、晶体的精密退火、陶瓷釉料制备、粉末冶金、纳米材料的烧结、金属零件淬火及一切需快速升温工艺要求的热处理，是科研单位、高等院校、工矿企业理想的实验和生产设备
