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发布时间：2021-09-29
双靶磁控溅射镀膜机的特点有哪些？
沈阳鹏程真空技术有限责任公司生产、销售磁控溅射产品，磁控溅射镀膜设备报价，以下信息由沈阳鹏程真空技术有限责任公司为您提供。
产品特点
1：此款镀膜仪配置有两个靶：一个靶配套的是射频电源，用于非导电靶材的溅射镀膜；一个靶配套的是直流电源，磁控溅射镀膜设备，用于导电材料的溅射镀膜
2：该镀膜仪可以制备多种不同材料的薄膜，磁控溅射镀膜设备价格，应用非常广泛。
3：该镀膜仪体积较小，且配备有触摸屏控制面板，操作方便。
自动磁控溅射系统有哪些特点？
沈阳鹏程真空技术有限责任公司生产、销售磁控溅射产品，我们为您分析该产品的以下信息。
自动磁控溅射系统产品特点：
不锈钢腔体
晶振夹具具有的lt;1 ?的厚度分辨率
带观察视窗的腔门易于上下的载片
基于LabView软件的PC计算机控制
带密码保护功能的多级访问控制
完全的安全联锁功能
预真空锁以及自动晶圆片上/下的载片
卧式磁控溅射镀膜机
以下是沈阳鹏程真空技术有限责任公司为您一起分享的内容，沈阳鹏程真空技术有限责任公司生产磁控溅射产品，欢迎新老客户莅临。
主要用途：
用于纳米级单层及多层功能膜、硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜等新型薄膜材料的制备。广泛应用于大专院校、科研院所的薄膜材料科研与小批量制备。
系统组成:
主要由真空室系统溅射室、靶及电源系统、样品台系统、真空抽气及测量系统、气路系统、控制系统、电控系统、计算机控制系统及辅助系统等组成。
