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关 键 词：多晶硅靶材
行 业：机械 干燥设备 微波干燥设备
发布时间：2021-09-08
实验室里可用在赤热下还原粉状二氧化硅，用稀酸洗去生成的氧化镁和，再用氢氟酸洗去未作用的二氧化硅，即得单质硅。这种方法制得的都是不够纯净的无定形硅，为棕黑色粉末。工业上生产硅是在电弧炉中还原硅石（SiO2含量大于99%）。使用的还原剂为石油焦和木炭等。使用直流电弧炉时，能全部用石油焦代替木炭。石油焦的灰分低（0.3%～0.8%），采用质量高的硅石（SiO2大于99%），可直接炼出制造硅钢片用的高质量硅。高纯的半导体硅可在1，200℃的热硅棒上用氢气还原高纯的三氯氢硅SiHCl3或SiCl4制得。超纯的单晶硅可通过直拉法或区域熔炼法等制备。 [2]
用镁还原二氧化硅可得无定形硅。用碳在电炉中还原二氧化硅可得晶体硅。电子工业中用的高纯硅则是用氢气还原三氯氢硅或四氯化硅而制得。
硅（台湾、香港称矽xī）是一种化学元素，它的化学符号是Si，旧称矽。原子序数14，相对原子质量28.0855，有无定形硅和晶体硅两种同素异形体，属于元素周期表上第三周期，IVA族的类金属元素。硅也是为常见的一种元素，然而它少以单质的形式在自然界出现，而是以复杂的硅酸盐或二氧化硅的形式，广泛存在于岩石、砂砾、尘土之中。硅在宇宙中的储量排在第八位。在地壳中，它是第二丰富的元素，构成地壳总质量的26.4%，仅次于位的氧（49.4%）。
硅的丰度，引起早期化学家的兴趣。矽（硅）在地球表面的含量仅次于氧，占有将近28%.但是矽（硅）元素并非早被发现的元素，那是因为从矽（硅）的氧化物中要将矽还原出来是一件非常困难的事。
硅约占地壳总重量的25.7%，仅次于氧。
在自然界中，硅通常以含氧化合物形式存在，其中简单的是硅和氧的化合物硅石SiO2。石英、水晶等是纯硅石的变体。
在光学，微电子等领域有着广泛的应用前景，是目前国际上广泛关注的功能材料。
多晶硅是一种重要的溅射靶材材料，使用磁控溅射方法制备SiO2等薄膜层，可以使基体材料具备更好的光学、介电及抗蚀性能，被广泛应用到触摸屏、光学等行业中。本公司采用美国GT-Solar公司的多晶硅铸锭炉的铸造长晶工艺可制备出的硅靶材材料，具有纯度高、导电性优异、晶粒均匀等特点，硅材料尺寸可达1m×1m。
作为重要的功能薄膜材料，它们具有良好的硬度，光学，介电性质及耐磨，抗蚀等特性。
目前主要用于LCD透明导电玻璃，建筑LOW-E 玻璃以及微电子产业。
加热速度快
常规加热如火焰、热风、电热、蒸气等加热，都是利用热传导的原理将热量从被加热物外部传入内部，逐步使物体中心温度升高，称之为外部加热。过程中要使中心部位达到所需的温度，需要一定的时间，同时需要较高的外部温度；热传导率较差的物体所需的时间就长。微波加热是使被加热物体本身成为发热物体，称之为整体加热方式，不需要热传导的过程，因此能在短时间内过到均匀加热。这一特点可使热传导较差的物质在短时间内得加热干燥，能量的利用率得到提高，还可以使加热炉的尺寸比常规加热炉要小。
