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行 业:电子 电子无源器件 薄膜电容器
发布时间:2021-08-10
有极性电解电容器通常在电源电路或中频、低频电路中起电源滤波、退耦、信号耦合及时间常数设定、隔直流等作用。一般不能用于交流电源电路,在直流电源电路中作滤波电容使用时,其阳极(正极)应与电源电压的正极端相连接,阴极(负极)与电源电压的负极端相连接,不能接反,否则会损坏电容器。
铝电解电容器漏电流的测试方法和测试条件为:在25℃,被测电容器串联一个1000Ω的保护电阻接于额定电压,测量漏电流。施加电压5 min后,漏电流不超过说明书的值为合格。小容量的铝电解电容器可以采用1min测试结果,大容量的铝电解电容器将需要更长的测试时间,从特性曲线可以看到,电流将无限趋近于终的“漏电流”值——补氧化铝介质需要的电流值。电解电容器的损耗因数(dissipation factor,DF)可以理解为在交流电流激励下,电解电容器的无功功率和等效串联电阻(ESR)的有功功率。很显然,这是容抗与等效串联电阻(ESR)之比。交流电路中的RC电路,而且这个比值非常像三角函数的对边比邻边——正切函数。
电解电容器广泛应用于家用电器和各种电子产品中,其容量范围较大,一般为1~33000μF,额定工作电压范围为6.3~700V。其缺点是介质损耗、容量误差较大(允许偏差为+、-20%),耐高温性较差,存放时间长容易失效。
在工艺上:
除了已经实现生产机械化和自动化以外,铝电解电容器在工艺上的进展主要是腐蚀和赋能两个工艺。铝箔的腐蚀系数不但已经很高(低压电容器箔已达100,高压者达25),而且可以根据对电容器的性能要求,腐蚀出不同坑洞形貌的铝箔。腐蚀工艺是一种腐蚀液种类、浓度、温度、原箔成分、结构、表面状态、腐蚀过程中箔速度以及电源类型、波形、频率、电压等的动态平衡工艺。问题是如何得出的动态平衡和如何根据要求确定出平衡。因此,对腐蚀工艺还不能说已经达到了状态。
现在的赋能工艺已经可以制造出的介质氧化膜,而且还可以根据要求不同,制造出不同的介质氧化膜,例如,对直流电容器,制造出γ和γ’型结晶氧化铝膜,对交流电容器,则为非晶膜。赋能工艺的进展是能将膜转变成介质氧化铝膜、并能在其表面形成防水层。此外,还能消除介质膜的疵点和龟裂。