价格：面议
0
联系人：
电话：
地址：
氦质谱检漏仪的基本原理与结构
氦质谱检漏仪一般由质谱管，真空系统和电子系统组成。其中质谱管包括离子源，质量分析器和离子检测器;真空系统-般由分子泵机械泵、电磁阀和真空计组成。离子源的作用是将原子电离成带电离子并聚焦成束，安徽真空箱式氦检漏，以-定能量注入质分析器，目前常用的电子轰击型离子源有尼尔型和震荡型两种形式。质分析器的作用起将各类离子按其质荷比的不同实现分离。子检测器的作用是手机质星分析器所选定的氦离子流并加以放大，再通过比对运算，得出泄漏率
真空系统的作用是获取质谱过程所需的真空，同时完成被检件的抽空和氦气的引入。空系统-般由分子泵、机械泵、电磁阀和真空计组成组成。按照真空系统的不同结构，检漏仪分为常规系统和逆扩散两种。常规系统多用于早期的氦质谱检漏仪，该种检漏仪的被检件与高真空部分直接相通，由被检件泄入的氮气首先到达质谱管被检到，因而具有较高的灵敏度，但是会对质谱管有污染。逆扩散系统检漏仪与常规系统相比，被检件只与低真空相通，因
此只需将被检工件抽至低真空就能进行检漏，氦气是逆扩散到质谱管，真空箱式氦检漏系统，不会对系统有污染，因此被广泛采用，已成为市场的主品。
机械泵的工作方式不-样，分为干泵检漏仪和油泵检漏仪，油泵工作会有油雾排出，污染工作环境，干泵没有油雾排出对工作环境没有影响。在半导体洁净车间都是使用干泵检漏仪。
半导体设备及材料需要检漏原因
1、半导体设备要求高真空，比如磁控溅射台、电子束蒸发台、ICP、PECVD等设备。出现泄漏就会导致高真空达不到或需要大量的时间，耗时耗力；
2、在高真空环境洁净度高、水蒸气很少。一旦出现泄漏周围环境中的灰尘和悬浮颗粒或尘埃就会对晶元造成污染，真空箱式氦检漏系统，对半导体的特性改变并破坏其性能，因此在半导体器件生产过程中必须进行氦质谱检漏；
3、一些半导体设备要用到有毒或有腐蚀性的特殊气体，经过氦质谱检漏后，在低漏率真空条件下，这些气体不易外泄，设备能及时抽走未反应气体和气态反应产物，保障工作人员安全和大气环境。
4、芯片封装，一旦出现泄漏，芯片就会失效。
真空箱式氦检漏系统【工作环境】
科创真空——真空箱氦检漏供应商，我们为您带来以下信息。
真空箱式氦检漏系统【工作环境】
工作环境:
1、长×宽×高（设备占地面积约）：依据实物实际面积为准。
2、电源：380 V±38 V，50 Hz±0.5 Hz，约22KW；
3、压缩气源及减压器：0.6～0.8Mpa氮气或干燥清洁压缩空气；
4、待检工件要求清洁、干燥。
5、环境温度： 5 ℃ ～ 35 ℃；
6、相对湿度： ≤80%；
7、氦气源及减压器：氦气纯度为 99％。
8、设备应安装在通风良好的厂房内。
