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光催化氧化对从烃到羧酸的种类众多有机物都有效,即使对原子有机物如卤代烃、染料、含氮有机物、有机磷杀虫剂也有很好的去除效果,只要达到一定的反应时间和反应环境配比即可达到原全氧化,可以说氢氧自由基的氧化对象几乎没有选择性,能跟任何现有物质反应。UV光催化氧化技术特点 1)UV光催化氧化设备利用特制的高能高臭氧UV紫外线光束照射工业废气,裂解恶臭/工业废气如:氨、三甲胺、硫化氢、甲硫氢、甲硫醇、甲硫醚、二甲二硫、二硫化碳和苯乙烯,硫化物H2S、VOC类,苯、甲苯、二甲苯等的分子链结构,使有机或无机高分子恶臭化合物分子链,在高能紫外线光束照射下,降解转变成低分子化合物,如CO2、H2O等。 2)利用高能高臭氧UV紫外线光束分解空气中的氧分子产生游离氧,因游离氧所携正负电子不平衡所以需与氧分子结合,进而产生臭氧。UV+O2→O-+O(游离氧)O+O2→O3(臭氧),众所周知臭氧对有机物具有极强的氧化作用,对工业废气及其它刺激性异味有立竿见影的清除效果。 3)恶臭/工业废气利用排风设备引入到本净化设备后,净化设备运用高能UV紫外线光束及臭氧对工业废气进行协同分解氧化反应,使工业废气物质其降解转化成低分子化合物、水和二氧化碳,再通过排风管道排出室外。 4)利用高能UV光束裂解工业废气中细菌的分子键,破坏细菌的核酸(DNA),再通过臭氧进行氧化反应,彻底达到脱臭及杀灭细菌的目的。光催化废气净化是利用TiO2作为催化剂的光催化过程,反应条件温和,光解迅速,产物为CO2和H2O或其它,而且适用范围广,包括烃、醇、醛、酮、氨等有机物,都能通过TiO2光催化清除。其机理主要是光催化剂二氧化钛吸收光子,与表面的水反应产生羟基自由基(·OH)和活性氧物质(·O,H2O2),其中羟基自由基(·OH)是光催化反应的一种主要的活性物质,对光催化氧化起决定作用。羟基自由基具有120kJ/mol的反应能,高于有机物中的各类化学键能,如:C-C(83kJ/mol),C-H(99 kJ/mol),C-N(73kJ/mol),C-O (84kJ/mol),H-O (111kJ/mol),N-H(93 kJ/mol),因而能迅速有效地分解挥发性有机物和构成细菌的有机物,再加上其它活性氧物质(·O,H2O2)的协同作用,其杀菌效果更为迅速。 利用光催化净化技术去除空气中的有机污染物具有以下特点: 1直接用空气中的氧气做氧化剂,反应条件温和(常温 常压) 2可以将有机污染物分解为二氧化碳和水等无机小分子,净化效果彻底。 3半导体光催化剂化学性质稳定,氧化还原性强,成本低,不存在吸附饱和现象,使用寿命长。光催化技术,就是在光的作用下进行的化学反应。光化学及光催化氧化法是目前研究较多的一项高级氧化技术。