价格：5.00起
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ENASOLV专有特种溶剂混合物。 它用于去除部件中的细颗粒和离子土壤。它为极性清洗提供了高的清洗力 ，同时保持与大多数塑料、陶瓷和金属部件的良好兼容性。典型应用离子去除。金属氧化物半导体（CMOS） 颗粒去除、精密清洁和去除金属、塑料和玻璃基板中的轻质油污。应用：汽车。燃油喷射、防锁制动系统、压缩机、继电器、传感器、开关。航空 航天。燃油喷射、起落架、印刷电路板。眼镜、导管、手术装置/针头、植入物。消费品 。手表、珠宝、相机镜头、平板 panel显示器、光学组件。电子/半导体。印刷电路板、电气触点、电缆、光纤、 硅片前开统一吊舱 （FOPS） 和翻转芯片。主要用途：（1）主要用于清洗、精密五金、电子元件制程等产品的高洁净度清洗。（2）由于ENASOLV的清洗溶解能力强，若用于有树脂、塑胶的零部件清洗时，需将零部件先泡在ENASOLV洗剂制程所需时间，取出观察是否有异常，再决定是否可以用于清洗。（3）ENASOLV适合于除去各种化学残留物，手指印，颗粒，灰尘，油污，冷却液，助焊剂、矿物油、植物油、多数树脂以及其他合成溶剂，油脂等油污。不易燃提高极性土壤和颗粒去除的清洁性能快速干燥，具有沸点，可立即加工和使用清洁部件高土壤负载能力通过减少与溶剂更换相关的设备停机时间来提高生产率产品在使用过程中保持组合稳定性无需表面活性剂：去除额外的洗涤步骤，实现无残留清洁低气味和毒性。优势：无氯化不可燃(无闪点)优越的土质提升(KB值高)非挥发残留量低非危险空气污染物非臭氧层消耗低全球升温潜能值极短的环境命运在环境中快速生物降解使用方式：（1）ENASOLV由于挥发速度快，人手直接接触的敞开式清洗，适合于有蒸馏回收装置的超声波清洗机清洗。（2）采用超声波清洗机清洗用浸泡、擦洗、刷洗、蒸汽洗均可，大量使用回收装置，可以多次反复重新回收使用，无损失，不浪费。（3）为防止蒸发损失，请将清洗槽设计为冷凝回收形式。（4）蒸汽清洗请在沸点温度范围内使用。使用温度过高影响产品清洗力和稳定性。（5）清洗剂的更换根据颜色及含油量判断。（6）可根据各公司自己对产品洁净度的要求来对清洗剂的使用程度作相应更换规定。（7）使用场所保持良好通风，建议操作人员配带口罩和手套。
