成都钛铝靶钛铌靶品牌 多弧钛铝靶材
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行 业：冶金 有色金属 镁
发布时间：2020-11-18
溅射靶材的要求较传统材料行业高，一般要求如，尺寸、平整度、纯度、各项杂质含量、密度、
N/O/C/S、晶粒尺寸与缺陷控制；较高要求或特殊要求包含：表面粗糙度、电阻值、晶粒尺寸均
匀性、成份与组织均匀性、异物（氧化物）含量与尺寸、导磁率、超高密度与超细晶粒等等。磁
控溅射镀膜是一种新型的物相镀膜方式,就是用电子系统把电子发射并聚焦在被镀的材料
上，使其被溅射出来的原子遵循动量转换原理以较高的动能脱离材料飞向基片淀积成膜。这种被
镀的材料就叫溅射靶材。 溅射靶材有金属，合金，陶瓷，硼化物等。
作为制备和生产功能薄膜的方法之一，溅射法广泛应用于许多领域。它是目前制备金属薄膜常用的工艺。作
为高技术用的靶材是一种全新的概念。随着高技术用新材料突飞猛进的发展，世界靶材的市场销售规模日益扩大
靶材的主要性能要求:
纯度
纯度是靶材的主要性能指标之一，因为靶材的纯度对薄膜的性能影响很大。不过在实际应用中，
对靶材的纯度要求也不尽相同。例如，随着微电子行业的迅速发展，硅片尺寸由6”, 8“发展到
12”, 而布线宽度由0.5um减小到0.25um,0.18um甚至0.13um，以前99.995%的靶材纯度可以满足
0.35umIC的工艺要求，而制备0.18um线条对靶材纯度则要求99.999%甚至99.9999%。
钛铝（TiAl）合金靶
2N8-4N
3.6-4.2
玫瑰金/咖啡色
圆柱形
直 径
60/65/95/100*30/32/40/45mm
装饰/工具
