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关 键 词:宿迁多晶硅靶厂家
行 业:冶金 铁合金 钛铁
发布时间:2020-06-27
硅靶一般可以分为单晶和多晶两种类型。多晶靶材,晶粒均匀,直径可以达到11英寸,可以加工成长方形,圆形等各种形状,还可以根据用户图纸加工特殊尺寸要求的靶材。
铸造多晶硅在生产过程中还需进行有意掺杂,其目的是改变硅熔体中受主杂质的浓度。行业内P型铸造多晶硅的主要掺杂剂是硅硼母合金,其中硼含量在0.025%左右。掺杂量由硅片的目标电阻率决定,电阻率优值为0.02 ~0.05 Ω?cm,对应硼的浓度约为2×1014cm-3。但是,硼在硅中的分凝系数为0.8,会在定向凝固过程中表现出一定的分凝效应,即硼元素在铸锭竖直方向上呈梯度分布,并导致电阻率由铸锭底部到顶部逐渐减小。
目前主要用于LCD透明导电玻璃,建筑LOW-E 玻璃以及微电子产业。
靶材广泛应用于半导体显示(TFT)、半导体芯片、光伏太阳能、光学光通讯、低辐射玻璃、手机装饰镀、计算机硬盘等行业。
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