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关 键 词：苏州铜背板
行 业：冶金 铁合金 铝锰
发布时间：2020-05-28
ITO靶材技术一直掌握在日本、韩国等少数企业手中，而中国企业在自主技术的研发上却一直进展缓慢。
目前中国生产的ITO靶材主要供应低端市场；而TFT-LCD、触摸屏用ITO靶材几乎全部从日本、韩国进口。
化学组分上的均匀性：
就是说在薄膜中，化合物的原子组分会由于尺度过小而很容易的产生不均匀性，SiTiO3薄膜，如果镀膜过程不科学，那么实际表面的组分并不是SiTiO3，而可能是其他的比例，镀的膜并非是想要的膜的化学成分，这也是真空镀膜的技术含量所在。
厚度均匀性主要取决于：
1、基片材料与靶材的晶格匹配程度
2、基片表面温度
3、蒸发功率，速率
4、真空度
5、镀膜时间，厚度大小。
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