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关 键 词：南京背板厂家
行 业：冶金 铁合金 铝锰
发布时间：2020-05-28
厚度均匀性主要取决于：
1、基片材料与靶材的晶格匹配程度
2、基片表面温度
3、蒸发功率，速率
4、真空度
5、镀膜时间，厚度大小。
职业健康安全方针：以人为本，关爱生命，安全发展，和谐共赢。
晶向均匀性：1、晶格匹配度；2、基片温度；3、蒸发速率。
厚度上的均匀性，也可以理解为粗糙度，在光学薄膜的尺度上看(也就是1/10波长作为单位，约为100A)，真空镀膜的均匀性已经相当好，可以轻松将粗糙度控制在可见光波长的1/10范围内，也就是说对于薄膜的光学性来说，真空镀膜没有任何障碍。
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