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关 键 词:实验室设备,小型实验室设备,小型设备,小型镀铜设备,科学院实验室设备
发布时间:2015-12-25
化学镀铜溶液的稳定性 (1)化学镀铜溶液不稳定的原因 在催化剂存在的条件下,化学镀铜的主要反应如下: 在化学镀铜溶液中除上式的主反应以外,还存在以下几个副反应。 为了保证PCB金属化孔连接的可靠性,化学镀铜层必须具有足够的韧性。化学镀铜层韧性差的主要原因是由于甲醛还原Cu2时,放出氢气引起的。虽然氢气不能和铜共沉积,但在镀铜反应中,这些氢气会吸附在铜的表面上,聚集成气泡夹杂在镀铜层中,使镀铜层产生大量的气泡空洞,这些空洞会使化学镀铜层的电阻变高,韧性变差。 除胶渣-中和-水洗-碱性除油-水洗-微蚀-水洗-预浸-活化-水洗-解胶(也叫加速)-沉铜(化学镀铜)。 这是最常见的化学镀铜的流程。 镀种 : 镀铜设备 ; 电镀位置 : 浸镀 ; 电镀电源 : 直流电源 ; 产品别名 : 电镀铜设备 ; 适用范围 : 电镀电解 ; 型号 : 100 ; 品牌 : 科普达 ; 加工定制 : 是 ;