4氧化铝靶，5N氧化铝靶材，99.999%氧化铝靶材

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关 键 词：氧化铝靶,氧化铝靶材

行 业：表面处理 气相沉积设备 阴极溅射设备 

发布时间：2015-04-30

1、 氧化铝颗粒，高纯氧化铝颗粒，高纯氧化铝
 2、 北京冠金利新材料科技有限公司长期为您供应高纯氧化铝靶材，高纯氧化铝靶，氧化铝粉末，高纯氧化铝颗粒，高纯氧化铝压片等相关产品，相应产品规格如下：高纯氧化铝靶材，粉末，压片的纯度为99.99%,和99.999%.
 3、 高纯氧化铝粉末：纳米级高纯氧化铝粉末，微米级高纯氧化铝粉末等。
 4、 高纯氧化铝靶材的常用尺寸为：?76.2*5、?100*4等。
 5、 高纯氧化铝颗粒：1mm-3mm,3mm-5mm,5目-1300目等尺寸，，高纯氧化铝晶体颗粒，分为透明晶体，半透明晶体，乳白色晶体。
 6、 高纯氧化铝压片：常用高纯氧化铝压片尺寸有?10*6，?10*8，?8*6等。
 7、 高纯氧化铝相关参数简介：纯度：99.9%-99.999%
 8、 外观： 无色透明颗粒 ，白色粉末,分子量： 101.96,密度 3.97 g/cm3 熔点： 2040℃ 沸点： 5500℃ 
 9、 蒸汽压力：在1900℃时 1 Pa 在2200℃时 10 Pa 线膨胀系数： 6.1×10-6/K ,比热 (27℃)： 0.78 J/gK 
 10、 硬度(摩氏)： 9 (克氏) 1370 Kg/mm2 蒸发温度 ：2000 ～ 2200 ℃ 蒸发速率 ：1 nm/s 氧分压 ：10-2 Pa 透明波段：200～5000 nm 折射率 （500nm） ：1.5~1.64 蒸发条件：电子枪蒸发 
 11、 应用领域：增透膜、多层膜，干涉膜，保护膜等 
 北京冠金利高纯陶瓷溅射靶材简介
 氧化物陶瓷靶：
 一氧化硅靶SiO 二氧化硅靶SiO2 氧化镁靶MgO 氧化铁靶Fe2O3 
 氧化铬靶Cr2O3 氧化锌靶ZnO 氧化铈靶CeO2 氧化锆靶ZrO2 
 氧化铌靶Nb2O5 二氧化钛靶TiO2 二氧化铪靶HfO2 三氧化钨靶WO3
 氧化铝靶Al2O3 氧化钽靶Ta2O5
 非氧化物陶瓷靶：
 氮化硅靶Si3N4 氮化钛靶TiN 氮化铝靶AlN 氮化硼靶BN 
 碳化硅靶SiC 碳化钛TiC 碳化铪HfC 碳化锆ZrC 
 碳化铌NbC 碳化钽TaC 
 二硼化钛、二硼化锆、二硼化铪、氯氧化锆、氯氧化铪、二硅化钼、二硫化钼
 钛酸钡靶BaTiO3 钛酸镧靶LaTiO3 钛酸镨靶PrTiO3 铌酸锂靶 硒化锌靶ZnSe 氟化钇靶YF3 氟化镁靶MgF2等陶瓷靶材。
 北京冠金利陶瓷靶材纯度一般为99.9%，99.99%等，采用先进工艺设备，例如等静压，喷射，喷涂，热压等再烧结致密，为各种溅射设备提供高质量的靶材，如有需要请来电咨询，北京冠金利期待与您合作愉快，谢谢。