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关 键 词：水处理设施
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发布时间：2014-02-18
半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件产品、单晶硅、多晶硅清洗需用大量的纯水、高纯水、超纯水清洗半成品、成品。根据行业的不同要求，制取纯水、超纯水工艺大致分为以下四种：1、采用离子交换方式，其流程如下：原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→阳树脂过滤→阴树脂过滤→阴阳树脂混床→微孔过滤器→用水点2、采用两级反渗透方式，其流程如下：原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→一级反渗透→PH调节→中间水箱→二级反渗透→纯化水箱→纯水泵→微孔过滤器→用水点3、采用EDI方式，其流程如下：原水
