供应铬靶

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发布时间：2013-06-03

铬靶
纯    度：≥2N5 (99.5％)
          ≥3N5 (99.95％)
密    度：7.19 g/cm3
熔    点：1890℃
主要用途：
           用于STN、TN、TFT-LCD等液晶显示行业；
           用于导电玻璃、柔性膜、幕墙玻璃镀膜，集成电路中的铬掩映膜，光学器件中的分光膜；
           用于刀具上的碳化铬硬质膜，X射线管中的阳极靶半导体功率器件中的多层金属膜；
           具有很好的抗磨耐腐蚀性，用于各种饰品、工艺品、高档家用五金用品的镀膜。