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关 键 词：铝靶
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发布时间：2013-06-03
铝靶 纯 度：≥3N5（99.95％） ≥4N（99.99％） 密 度：2.7 g/cm3 熔 点：660℃ 主要用途：用于各类显示器件、存储材料、光学玻璃、热学薄膜、五金器材的溅射镀膜。
