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光刻网格校正玻璃版是一种图形转移技术，将光刻版上的网格图形转移到涂有光敏材料，即光刻胶的硅片上，符合工业标准的光刻和检测系统的光刻版。 将光首先通过光刻版，将硅片上的光刻胶曝光，从而产生可以沉积金属的蓝图。 电子束或激光束图形发生器是该工艺过程中的关键部分。这些工具用来生产光刻版-一种覆有精细金属硌形成的集成电路图形的低膨玻璃或石英平板。 图形发生器采用电子束或激光束根据这些信息在覆盖有光刻胶的基版上画出图形。然后基版再去显影，刻蚀从而生产出光刻版。 光刻版尺寸：550x450mm,540x420mm, 厚度：4.8mm, 3.0mm. 光刻版基材: Quartz; Soda Lime 最小线宽:1.0um. 接触孔:1.5x1.5um CD公差:+/-0.1um 均一性(范围):0.12um 套刻精度:0.12um 缺陷大小:0.8um缺陷密度:0.6DPSI >>欢迎来样订制<<
