价格：48起
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一、用途和特性：
具有快速光亮和特高的填平度，低电流密度区也可得到丰满光亮的镀层，在广泛的电流密度范围内都可得到镜面光亮镀层。工作温度范围广，18~35℃都可以得到较好的效果，应力小，长期使用无有害分解产物。对镍的结合力好，不会因产生膜层引起的结合力不良。操作简便，光剂消耗量少。光亮剂稳定性较高。
二、电镀条件：
原料 范围 标准开缸
硫酸铜 160~240克/升 200克/升
硫酸 40~80克/升 65克/升
氯离子 30~100毫克/升 60毫克/升
JJW-MU（开缸剂） 9~12毫升/升 10ml/l
JJW-A（填平剂） 0.4~0.6毫升/升
