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关 键 词：镀膜机
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发布时间：2011-10-12
EMITECH K500 离子溅射镀膜机
K500X系统使用磁电管靶，使得在使用低电压时提高了效率，并且能得到非常精细的颗粒，由于是冷溅射，所以*冷却靶面或样品台。
K500X的样品台适合放置各种样品。
腔室的设计很*放置和移走样品。
本仪器装有金靶靶材（或其它可选靶材），靶材更换方便，可选靶材包括金/钯，铂/钯和铂。提供合适的性能价格比。
功能集中在仪器面板上以及即插即用电子学设计，较大的“up-time”，这些用户友好设计满足了不同学科的用户需求，K500X为手动操作。
溅射参数可被预先设置，包括气体放气针阀，此阀为电磁阀，一旦设置，它就不需要再调节。溅射互锁，系统可*选配K250镀碳附件。
仪器可控制独立的真空泵。
特点
·低电压溅射
·高分辨率精细涂层(金颗粒达2 nm)
·均匀厚度沉积(扫描电镜一般厚度为20nm 或200A)
·165 mm(6英寸)腔室直径
·可接膜厚监视器，实时监测镀覆层厚度
·*冷却样品台
·**的再次涂层
·膜厚度重复性好
·*装载或卸载样品
·可预设沉积厚度
性能指标
1.仪器尺寸：450mm W x 350mm D x 175mm H
2.工作腔室：硼硅酸盐玻璃 165mm Dia x 125mm H
3.*钟罩：聚碳酸酯
4.重量：18公斤
5.靶：60 mm 直径 x 0.1mm 厚(金作为标准靶面)
6.样品台：60 mm直径
7.真空范围：ATM-1x10-2 mbar
8.沉积电流范围：0-50mA
9.沉积速率：0-25nm/分
10.溅射时间：0-4 分钟
11.预设置针阀：控制氩
12.电源：230 伏 50Hz (10 amp max. including Pump)
