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此外，氮化钛膜还可用作耐腐蚀镀层、微电子器件的扩散障碍层、光学反射层等60年代末，人们以TiCl4为原料，用化学气相沉积在硬质合金基体上制备出氮化钛膜，其反应温度在900-1100摄氏度氮化钛属于间隙化合物，具有美丽的金光泽，化学稳定性好，熔点高达3000℃，维氏显微硬度为20GPa左右。氮化钛以面心立方的-TiN和体心四方的Ti2N两种相存在Ti2N的Ti/N比变化范围很窄，而的N/Ti比的变化范围则很宽。当N/Ti偏离1时，TiN中存在原子空位。这两种相的颜色和硬度相近。使用的氮化钛镀层，其中常常TiN和Ti2N两相共存，其组成比可以通过工艺调节 。
