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湿法清洗——化学方法
湿法清洗可以进一步分为化学方法和物理方法。化学方法采用化学液实现清洗，随着工艺的改进，化学清洗方法朝着减少化学液的使用量和减少清洗步骤两个方向发展。化学清洗方法包括包括RCA、改进RCA、IMEC等。
RCA清洗：由美国无线电公司（RCA）于20世纪60年代提出，目前被认为是工业标准湿法清洗工艺。该方法主要由一系列有序侵入不同的化学液组成，即1号标准液（SC1）和2号标准液（SC2）。1号标准液化学配料为：NH4OH：H2O2：H2O(1:1:5），2号标准液化学配料为：HCL：H2O2：H2O(1:1:6)。
改进RCA清洗：RCA清洗使用了大量的化学液，实际应用中被做了改进。改进RCA清洗方法主要稀释了化学液，SC1化学液比例由传统的1:1:5稀释为1:4:50。稀释化学液对人体健康安全有很多改善，同时减少了化学液的使用，降低了工厂成本及对环境的污染。 江苏芯梦是您身边专业的晶圆盒清洗槽式清洗设备制造商！山东本地槽式清洗机商家
全自动槽式清洗设备是一款具有创新性和实用性的清洗装置。它以其出色的功能和稳定的性能，为各行业的清洗工作提供了有力支持。该设备的通风系统能够及时排除清洗过程中产生的蒸汽和异味，保持工作环境的清新。其先进的水质监测系统能够实时监测清洗液的水质，确保清洗质量。在航空航天零部件的清洗中，全自动槽式清洗设备能够满足严格的清洁标准，保障零部件的可靠性。在玻璃制品加工中，它能让玻璃表面洁净无瑕，提升产品品质。而且，设备的外观设计美观大方，结构紧凑，节省空间。广东全自动槽式清洗设备江苏芯梦半导体槽式清洗设备有限公司是你的必备之选！
高价值、高毛利，芯片良率的重要保障。半导体清洗设备是芯片制造良率的重要保障，主要分为单片设备和槽式设备两类。在40nm及以下的先进工艺中，单片清洗设备凭借无交叉污染和良率优势，已替代槽式设备成为主流。不同的清洗方法往往构成不同设备厂家的核心竞争力，江苏芯梦通过发明对各自的技术路线进行保护。对于同一类型、相同清洗方法的设备而言，不同的硬件组合和工艺方案，也会产生明显的设备性能差别。清洗设备单台价值量和利润率均非常高。
晶圆制造工艺复杂，拥有很多工序，不同工序中使用了不同的化学材料，通常会在晶圆表面残留化学剂、颗粒、金属等杂质，如果不及时清洗干净，会随着生产制造逐渐累积，影响质量。在晶圆制造工艺中，一般存在五个清洗步骤，分别是颗粒去除清洗、刻蚀后清洗、预扩散清洗、金属离子去除清洗和薄膜去除清洗。因此，作为清洗工艺的基础，清洗设备成为了制程发展的关键。
按照清洗方式的不同，清洗设备可分为两种，分别是单片式和槽式。
单片式清洗机是由几个清洗腔体组成，再通过机械手将每一片晶圆送至各个腔体中进行单独的喷淋式清洗，清洗效果较好，避免了交叉污染和前批次污染后批次，但缺点是清洗效率较低，成本偏高。 芯梦槽式清洗设备、简单、高效、便捷！
芯梦槽式湿法设备用于批式晶圆湿法清洗、刻蚀、光刻胶去除等工艺，提供多个槽体进行化学药液或纯水，结合热浸、喷淋、溢流、快速冲洗等清洗方式，配合先进的IPA干燥方式，可同时对25或50片晶圆进行工艺处理，可广泛应用于集成电路制造领域。
主要优势
小尺寸，高产能
先进的IPA干燥方式
工序可灵活编辑
无盒式（No-Cassette）50片晶圆批次处理
节能减排，降低成本
特征规格
配备先进的IPA干燥槽
配备稳定的晶圆传输系统
模块化设计，可客制化组合选配
可选配一体式清洗模块（多种化学药水与纯水在同一槽中进行工艺）
可选配兆声波清洗 芯梦的槽式清洗设备节能环保，符合现代的生产理念，助你降低成本！重庆半导体槽式清洗机出厂价
芯梦槽式清洗设备操作简单，维护方便，降低你的使用成本！山东本地槽式清洗机商家
全自动槽式清洗设备是一款先进的工业清洗设备，以其出色的性能和可靠的质量，成为众多企业的理想选择。该设备的循环水系统能够充分利用水资源，降低用水成本。其高精度的传感器能够实时感知清洗过程中的各种参数，如温度、压力等，并进行自动调节。在太阳能板制造中，全自动槽式清洗设备能够去除板面上的灰尘和污渍，提高发电效率。在家具制造行业，它能为家具部件提供干净整洁的表面处理。此外，设备的售后服务完善，能够及时为用户解决使用过程中遇到的问题。山东本地槽式清洗机商家
