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产品规格：一套
产品数量：10 个
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关 键 词：镀膜机,刻蚀机,真空炉
行 业：机械 化工实验设备
发布时间：2023-12-11
●本设备主要用于半导体刻蚀，能够兼容离子束刻蚀和反应离子刻蚀功能，使用气态化学刻蚀剂与材料产生反应来进行刻蚀，并形成可从衬底上移除的挥发性副产品，通过真空系统排出，特别适合刻蚀熔融石英、硅、光刻胶、聚酷亚胺( PI) 薄膜、金属等材料。
