光催化氧化装置 光催化氧化法是目前研究较多的一项氧化技术。所谓光催化反应，就是在光的作用下进行的化学反应。光化学反应需要分子吸收特定波长的电磁，受激产生分子激发态，然后会发生化学反应生成新的物质，或者变成引发热反应的中间化学产物。光催化降解中较常见的是在污染体系中投加一定量的光敏材料，同时结合一定量的光，使光敏半导体在光的照射下激发产生电子-空穴对，吸附在半导体上的溶解氧、水分子等与电子-空穴作用，产生·HO等氧化性强的自由基，再通过与污染物之间的羟基加和、取代、电子转移等形式使污染物全部或接近全部矿化。 净化主机纳米光催化氧化部分工作原理
该设备核心中的纳米光催化触媒材料（GC-100）是一种吸收光能后，能在其表面产生催化反应的物质，其功能类似于植物的叶绿素。当特定纳米波长的紫外光照射光催化触媒材料（GC-100）时，其表面发生光催化氧化还原反应。光催化触媒材料（GC-100）吸收光子后在其表面产生电子（E—）和空穴（H+），将吸收的光能转化成化学能，即具有光催化作用。
当光催化触媒材料（GC-100）与空气中的水接触时，表面就吸附H2O、O2、OH—，H2O、 OH—被空穴（H+）所氧化，O2被电子（E—）还原，反应室如下：
H2O+ H+ → OH. + H+ O2+ E— → O2—OH—基团的氧化能力较强，使有机物氧化，终分解为水和CO2。
光催化氧化vocs废气处理设备特点：
1、性：光催化氧化除臭设备能去除挥发性有机物(VOC)、无机物、硫化氢、氨气、硫醇类等主要污染物，以及各种恶臭味，脱臭效率高可达99%，远超过恶臭污染物排放标(GB14554-93)。
2、无需预处理：光催化氧化除臭设备恶臭气体无需进行的预处理，如加温、加湿等，除臭设备工作环境温度在摄氏-30度-95度之间，湿度在30%-98%、PH指在3-11之间均可正常工作。
3、无需添加任何物质：只需要设置相应的排风管道和排风动力，使恶臭气体通过光催化废气处理设备进行脱臭分解净化，无需添加任何物质参与化学反应。
4、运行成本低：光催化除臭设备去任何机械动作，无噪音，无需专人管理和日常维护，只需定期检查，本设备能耗低，(每处理废气风量为1000立方米/小时，仅耗电约0.2度电能)，设备风阻低
特制催化剂：根据不同的废气成分配置27种以上相对应的惰性催化剂，催化剂采用蜂窝状金属网孔作为载体，与光源接触，惰性催化剂在338纳米光源以下发生催化反应，放大10-30倍光源效果，使其与废气进行充分反应，缩短废气与光源接触时间，从而提高废气净化效率，催化剂还具有类似于植物光合作用，对废气进行净化效果。
UV光解废气净化设备采用的大功率高能紫外线发射管，光子能量分别为742 KJ/mol和 ** 7 KJ/mol。要裂解切断污染物质分子的分子键，就要使用发出比污染物质分子的结合能强的光子能。
uv光催化氧化废气处理设备，光氧催化氧化 利用特制的高能高臭氧UV紫外线光束照射废气，使有机或无机高分子恶臭化合物分子链，在高能紫外线光束照射下，与臭氧进行反应生成低分子化合物，如CO2、H2O等。投低，适用范围广，净化效率高，操作简单，除臭效果好，设备运行稳定，占地小，运行费用低，随用随开，不会造成二次污染。
