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鹏城半导体技术（深圳）有限公司
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高真空电子束蒸发镀膜机（电子束蒸发镀膜机）是在高真空条件下，采用电子束轰击材料加热蒸发的方法，在衬底上镀制各种金属、氧化物、导电薄膜、光学薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、超硬膜等；可镀制混合物单层膜、多层膜或掺杂膜；可镀各种高熔点材料。 可用于生产、科学实验及教学，可根据用户要求专门订制。 可根据用户使用要求，选配石英晶体膜厚自动控制及光学膜厚自动控制两种方式, 通过PLC 和工控机联合实现对整个镀膜过程的全程自动控制, 包括真空系统、烘烤系统、蒸发过程和膜层厚度的监控功能等，从而提高了工作效率和保证产品质量的一致性和稳定性。 设备特点 设备具有真空度高、抽速快、基片装卸方便的特点，配备 E 型电子束蒸发源和电阻蒸发源。PID自动控温，具有成膜均匀、放气量小和温度均匀的优点。 可根据用户使用要求，选配石英晶体膜厚自动控制及光学膜厚自动控制两种方式,通过PLC和工控机联合实现对整个镀膜过程的全程自动控制,包括真空系统、烘烤系统、蒸发过程和膜层厚度的监控功能等，从而提高了工作效率和保证产品质量的一致性和稳定性。 真空性能 极限真空：7×10-5Pa～7×10-6Pa 设备总体漏放率：关机12小时，≤10Pa 恢复工作真空时间短，大气至7×10-4Pa≤30分钟； 高真空电子束蒸发镀膜机（电子束蒸发镀膜机）设备构成 E 型电子束蒸发枪、电阻热蒸发源组件（可选配）、样品掩膜挡板系统、真空获得系统及真空测量系统、分子泵真空机组或低温泵真空机组、旋转基片加热台、工作气路、样品传递机构，膜厚控制系统、电控系统、恒温冷却水系统等组成。 可选件：膜厚监控仪，恒温制冷水箱。 热蒸发源种类及配置 项目 参数 备注 E 型电子束蒸发系统 1套 功率 6kW～10kW 其它功率(可根据用户要求选配） 坩埚 1～8只 可根据用户要求选配 电阻热蒸发源组件 1～4套 （可根据用户要求配装） 电阻热蒸发源种类 -钽（钨或钼）金属舟热蒸发源组件 -石英舟热蒸发源组件 -钨极或钨蓝热蒸发源组件 -钽炉热蒸发源组件（配氮化硼坩埚或陶瓷坩埚） -束源炉热蒸发组件（配石英坩埚或氮化硼坩埚） 操作方式 手动、半自动