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鹏城半导体技术（深圳）有限公司
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高真空电阻热蒸发镀膜机（高真空镀膜机）采用电阻热蒸发技术，它是在高真空条件下，通过加热材料的方法，在衬底上沉积各种化合物、混合物单层或多层膜。可用于生产和科学实验，可根据用户要求专门订制；可用于材料的物理和化学研究；可用于制备金属导电电极；可用于**材料的物理化学性能研究实验、**半导体器件的原理研究实验、OLED实验研究及**太阳能薄膜电池研究实验等。 设备构成 -单镀膜室 -单镀膜室＋进样室 -单镀膜室＋手套箱（可将镀膜室放在手套箱内） -单镀膜室＋进样室＋手套箱（可将镀膜室放在手套箱内） -多镀膜室＋样品传递室＋手套箱（组成团簇式结构，样品传递采用真空机械手） 设备组成 电阻热蒸发源组件、样品掩膜挡板系统、真空获得系统及真空测量系统、分子泵（或冷泵）真空机组、旋转基片加热台、工作气路、手套箱连接部件、样品传递机构，膜厚控制系统、电控系统、恒温冷却水系统等组成。 热蒸发源类型和数量，可根据用户需要进行配置。 可选件：膜厚监控仪，恒温制冷水箱。 热蒸发源种类及配置 电阻热蒸发源组件：数量：1～12套（可根据用户要求配装）； 电阻热蒸发源种类：钽（钨或钼）金属舟热蒸发源组件、石英舟热蒸发源组件、钨极或钨蓝热蒸发源组件、钽炉热蒸发源组件（配氮化硼坩埚或陶瓷坩埚）、束源炉热蒸发组件（配石英坩埚或氮化硼坩埚）。 工作条件（实验室应具备的设备工作条件） 供电：4kW，三相五线制～ AC 380V 工作环境湿度：10℃～ 40℃ 工作环境温度：≤50% 冷却循环水：0.2m3/h，水温18℃～ 25℃ 水压：0.15MPa ～ 0.25MPa 真空性能 极限真空：7×10-5Pa～7×10-6Pa 设备总体漏放率：关机12小时，≤10Pa 操作方式 手动、半自动