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发布时间:2022-04-29
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真空镀膜的形式:蒸发镀膜
工艺原理:
4)沉积原子之间产生两维碰撞,形成簇团,有的在表面停留一段时间后再蒸发;
5)原子簇团与扩散原子相碰撞,或吸附单原子,加工高反射反光杯,或放出单原子,这种过程反复进行;
6)当原子数超过某一临界值时就变为稳定核,再不断吸附其他扩散原子而逐步长大,后与邻近稳定核合并进而变成连续膜。
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真空镀膜之磁控溅射镀膜 :磁控溅射的基本原理就是以磁场改变电子运动方向, 束缚和延长电子的运动轨迹, 从而提高了电子对工作气体的电离几率和有效地利用了电子的能量。因此在形成高密度等离子体的异常辉光放电中正离子对靶材轰击所引起的靶材溅射更加有效,同时受正交电磁场的束缚的电子只能在其能量将要耗尽时才能沉积在基片上。这就是磁控溅射具有 “低温”、“高速”两大特点的机理。
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真空镀膜之多弧离子镀 :
多弧离子镀又称电弧离子镀或阴极离子镀是以镀膜材料为阴极,注塑高反射反光杯,阳极和真空室相连,深圳高反射反光杯,阴极和阳极分别接到低压大电流直流电源的负极和正极。蒸镀时由于放电,在阴极表面上出现明亮的弧斑, 从而使阴极材料蒸发并电离, 形成金属等离子体。引弧电极与阴极靶表面接触和离开的瞬间,阴极和阳极之间形成稳定的自持弧光放电。