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发布时间：2022-04-28
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真空镀膜之多弧离子镀 ：
多弧离子镀又称电弧离子镀或阴极离子镀是以镀膜材料为阴极，阳极和真空室相连，阴极和阳极分别接到低压大电流直流电源的负极和正极。蒸镀时由于放电，在阴极表面上出现明亮的弧斑， 从而使阴极材料蒸发并电离， 形成金属等离子体。引弧电极与阴极靶表面接触和离开的瞬间，LED灯反光杯镀膜价格，阴极和阳极之间形成稳定的自持弧光放电。
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物理l气相沉积（真空镀膜）基本方法 ：
1、从沉积粒子能量（中性原子）来看，真空蒸镀为0.1-1eV，溅射为1-10eV，离子镀为0.1-1eV（此外还有高能中性原子）。
2、从沉积速率来看，真空蒸镀为0.1-70μm/min，溅射为0.01-0.05μm/min(磁控溅射接近于真空蒸镀)，离子镀为0.1-50μm/min。
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离子镀时，蒸发料粒子是以带电离子的形式在电场中沿着电力线方向运动，习而凡是有电场存在的部位，均能获得良好镀层，这比普通真空镀膜只能在直射向上获得镀层优越得多。因此，这种方法非常适合于镀复零件上的内孔、凹槽0窄缝。等其他方法难镀的部位。
