价格：200000起
派珂纳米科技（苏州）有限公司
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一体设计、方便移动 冷阱、真空泵集中一体设计，占用空间小;特别对于空间小的实验室来说更有优势，方便移 动。 特殊设计、维护简单 保温区的特殊设计，大大减少了派瑞林沉积到玻璃管保温区内壁，可以降低保养次 数。 产品安全，厚度可控 1、升华加热设备可移动，可以杜绝因突然停电或其他意外可以迅速移开加热，保证在意外发生时派瑞林原料不在挥发升华，保证产品**安全。 2设备在工作时，派瑞林原料剩余及蒸发情况可以进行随时查看，保证原料完全使用，保证产品厚度要求。 量身定制，设计合理 1对于一些特殊要求的客户，我们可以配备实时电子测厚仪，非常明确的了解腔体加工产品的镀膜厚度。 2也可以定制在气化和裂解之间加阀门，达到升华加热设备可移动同样的保护作用。稍微的区别在于阀门是自动控制。 适用范围 研究所的实验室，要求精度高的产品，小批量或样品等。 镀膜过程： Parylene采用了一种*特的化学气相沉积工艺（CVD）。CVD工艺较早应用于半导体工业的外延生长，整个过程是气态反应，又在真空条件下进行，因而可以获得非常均匀的涂层，达到其它方法难以实现的同形性。 派瑞林沉积过程过程主要有三步： 1. 真空130℃条件下固态派瑞林材料升华成气态。 2. 真空680℃条件下，将气态双份子裂解成活性单体。 3. 真空常温下，气态单体在基体上生长聚合。