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发布时间:2022-04-21
中系稀土抛光粉,主要适用于光学仪器的中等精度中小球面镜头的高速抛光。该抛光粉与高粉比较,可使抛光粉的液体浓度降低11%,抛光速率提高35%,制品的光洁度可提高一级,稀土抛光粉公司,抛光粉的使用寿命可提高30%.目前国内使用这种抛光粉的用量尚少,有待于今后继续开发新用途。
低系稀土抛光粉,如771型适用于光学眼镜片及金属制品的高速抛光;797型和C-1型适用于电视机显象管、眼镜片和平板玻璃等的抛光;H-500型和877型适用于电视机显象管的抛光。此外,其它抛光粉用于对光学仪器,摄像机和照像机镜头等的抛光,这类抛光粉国内用量,约占国内总用量85%以上。
以上原料中除种外,稀土抛光粉作用,第2,3,4种均含轻稀土(w(REO)≈98%),且以CeO2为主,w(CeO2)为48%~50%.我国具有丰富的资源,据测算,东莞稀土抛光粉,其工业储量约为1800万吨(以CeO2计),这为今后我国持续发展稀土抛光粉奠定了坚实的基础,也是我国独有的一大优势,并可促进我国稀土工业继续高速发展。
1.4主要生产工艺及设备
1.4.1高系稀土抛光粉的生产
以稀土混合物分离后的氧化为原料,以物理化学方法加工成硬度大,粒度均匀、细小,呈面心立方晶体的粉末产品。其主要工艺过程为:原料→高温→煅烧→水淬→水力分级→过滤→烘干→系稀土抛光粉产品。
国外于60年前开始生产稀土抛光粉,二十世纪90年代已形成各种标准化、系列化的产品达30多种规格牌号。
目前,国外的稀土抛光粉生产厂家主要有15家(年生产能力为200吨以上者)。其中,法国罗地亚公司年生产能力为2200多吨。是目前大的稀土抛光粉生产厂家。美国的抛光粉年产量能力达1500吨以上。
。日本生产稀土抛光粉的原料采用氟碳矿、粗氯化和氯化稀土三种,工艺上各不相同。日本稀土抛光粉的生产在烧结设备和技术上均具特色。1968年,我国在上海跃龙化工厂研制成功稀土抛光粉。