parylene涂层的气相沉积制备过程：首先固态的对二原料在蒸发腔内随着温度的升高逐渐吸热升华；升华后的二聚体气体进入裂解腔，在680℃左右的温度下，二聚体的分子键被断开，形成具有两个悬空键的活性parylene单体；后parylene单体被送到室温的真空沉积室里，在工件表面进行聚合沉积，终形成一层致密的保护膜层。
聚对二甲苯具有优异的电气性能：低介电常数和损耗，具有良好的高频特性;良好的介电强度;和高的体积和表面电阻。
聚对二甲苯具有良好的耐热性：聚对二甲苯c在空气中进行，在80℃和没有氧气至超过200℃的温度下在10年内没有明显的物理性能损失。派瑞林是透明的，可用于涂覆光学元件。
派珂纳米拥有20多年派瑞林镀膜经验，涉及到各行各业的产品；严格按照作业标准进行操作，严格把控质量；设备特的设计结构，使得镀膜速度快、生产效率高，从而降低涂敷成本；设备容量大，可满足批量化生产客户的要求；镀膜均匀性好，同批次均匀性＜5%；跟原料厂家合作，让客户在原料的供应上后顾无忧；拥有研发团队，可自主研发、设计、生产派瑞林沉积设备，提供量身定制的解决方案；拥有万级洁净厂房，满足对洁净度要求较高的产品的加工环境需求。
目前现有的镀膜方式具有以下缺陷：1、气密性不强，影响真空效果，抽真空效果不好，生产效率低，且影响镀膜效果，制得的成品良品率低；2、镀膜效果差，薄膜容易从产品上脱落；3、设备机构负责，不便维修；4、智能适用于一些金属镀膜材料，易生成有害气体。派瑞林镀膜设备以其特的结构设计，避免上述设备上存在的缺陷，以特的CVD镀膜方式在产品表面形成一层致密的保护膜，可有效对产品防护，不受外界恶劣环境的破坏。
