价格：面议
沈阳鹏程真空技术有限责任公司
联系人：董顺
电话：13898863716
地址：沈阳市沈河区凌云街35号
产品规格：
产品数量：
包装说明：
关 键 词：气相化学沉积设备报价,气相化学沉积设备厂家,气相化学沉积设备多少钱,气相化学沉积设备价格,气相化学沉积设备哪家好
发布时间：2022-02-10
化学气相沉积法在金属材料方面的使用
想要了解更多化学气相沉积的相关内容，请及时关注沈阳鹏程真空技术有限责任公司网站。
钯的化学气相沉积Pd 及其合金对氢气有着较强的吸附作用以及特别的选择渗透性能，是一种存储或者净化氢气的理想材料。对于Pd 的使用大多是将钯合金或是钯镀层生产氢净化设备 。也有些学者使用化学气相沉积法将钯制成薄膜或薄层。具体做法是使用分解温度较低的金属**化合物当做制备钯的材料，具体包括：烯丙基Pd（η-C3H5） （η-C5H5）以及 Pd（η-C3H5）（CF3COCHCOCF3）之类的材料，气相化学沉积设备哪家好，使用这种方式能够制取出纯度很高的钯薄膜。
化学气相沉积法在金属材料方面的使用
沈阳鹏程真空技术有限责任公司生产、销售化学气相沉积，气相化学沉积设备厂家，以下信息由沈阳鹏程真空技术有限责任公司为您提供。
化学气相沉积法生产金属铱高温涂层从20世纪80年代起，NASA 开始尝试使用金属**化合物化学气相沉积法制取出使用铼基铱作为涂层的复合喷管，并获得了成功，这时化学气相沉积法在生产金属涂层领域才有了一定程度上的突破。
NASA 使用了C15H21IrO6作为制取铱涂层的材料，气相化学沉积设备，并利用 C15H21IrO6的热分解反应进行沉积。铱的沉积速度很快，气相化学沉积设备价格，可以达到3~20μm/h。 沉积厚度也达到了50μm，C15H21IrO6的制取效率达 70%以上。
化学气相沉积技术在材料制备中的使用
化学气相沉积技术生产多晶/非晶材料膜：
化学气相沉积法在半导体工业中有着比较广泛的应用。比如作为缘介质隔离层的多晶硅沉积层。在当代，微型电子学元器件中越来越多的使用新型非晶态材料，这种材料包括磷硅玻璃、硼硅玻璃、SiO2以及 Si3N4等等。此外，也有一些在未来有可能发展成开关以及存储记忆材料，例如氧化铜-氧化铜等都可以使用化学气相沉积法进行生产。
如需了解更多化学气相沉积的相关内容，欢迎拨打图片上的热线电话！
