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沈阳鹏程真空技术有限责任公司
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发布时间：2022-01-31
脉冲激光沉积的原理
脉冲激光沉积原理：在真空环境下利用脉冲激光对靶材表面进行轰击，利用激光产生的局域热量将靶材物质轰击出来，再沉积在不同的衬底上，脉冲激光沉积装置公司，从而形成薄膜。
脉冲激光沉积技术适合做的薄膜包括各种多元氧化物，氮化物，脉冲激光沉积装置哪家好，硫化物薄膜，金属薄膜，磁性材料等。
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脉冲激光沉积系统配置介绍
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脉冲激光沉积系统配置：
生长室，脉冲激光沉积装置多少钱，进样室可选水平、垂直两种靶台可选激光加热和辐射加热两种样品台可选，激光加热高的温度1200℃工艺气路可以任意搭配配备高压RHEED，工作气压可达100Pa可预留法兰，用于LEED，K-Cell， E-beam等其它可选项如臭氧发生器，离子源，掩膜系统等。
脉冲激光沉积原理
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脉冲激光沉积原理：在真空环境下利用脉冲激光对靶材表面进行轰击，利用激光产生的局域热量将靶材物质轰击出来，再沉积在不同的衬底上，从而形成薄膜。
