舟山Parylene派瑞林镀膜机生产厂家 可实现大批量生产
价格：350000.00起
派瑞林镀膜设备镀膜后的产品起到很好的防潮防盐雾防霉菌的三防效果。
派珂纳米公司本着“针对不同客户的产品要求量身定制加工方案，保证客户产品质量的同时，降低涂敷成本”的宗旨，为客户量身定制化的设备。
目前现有的镀膜方式具有以下缺陷：1、气密性不强，影响真空效果，抽真空效果不好，生产效率低，且影响镀膜效果，制得的成品良品率低；2、镀膜效果差，薄膜容易从产品上脱落；3、设备机构负责，不便维修；4、智能适用于一些金属镀膜材料，易生成有害气体。派瑞林镀膜设备以其特的结构设计，避免上述设备上存在的缺陷，以特的CVD镀膜方式在产品表面形成一层致密的保护膜，可有效对产品防护，不受外界恶劣环境的破坏。
派瑞林镀膜被许多人认为是保护电子，仪器仪表，航空航天，医疗和工程行业中的器件，元件和表面的较好保形涂层。聚对二甲苯在室温下直接在表面上形成是的。它具有化学稳定性，成为优异的阻隔材料，具有优异的耐热性，以及优异的机械性能和高拉伸强度。没有涉及液相。涂层是真正保形的，具有统一的可控厚度，并且在厚度大于0.5μ时完全无针孔。派瑞林涂层完全穿透狭窄的0.01mm的空间。聚合中不涉及引发剂或催化剂，所以涂层非常纯净并且不含痕量的离子杂质。室温形成意味着涂层有效地无应力。
对于电子产品防腐蚀处理，常见的一般为传统的三防处理。传统三防材料一般是通过喷涂或电镀的方式来完成的，常见的传统三防材料有聚氨酯、环氧树脂、UV胶、有机硅、丙烯酸类，这些材料分子颗粒较大，喷涂之后形成的膜层不够致密，很容易让有腐蚀性的液体或气体分子进入，腐蚀金属表面，影响正常工作。
派瑞林涂层的镀膜方式为气相沉积CVD，沉积过程过程主要有三步：
1. 真空130℃条件下固态派瑞林材料升华成气态。
2. 真空680℃条件下，将气态双裂解成活性单体。
3. 真空常温下，气态单体在基体上生长聚合。
上述过程中裂解后的活性单体为纳米级小分子颗粒，单体重新聚合而形成的膜非常致密，有较低的水汽透过率，可起到更好的阻隔水氧的作用。经派瑞林涂敷后的电子产品即便在有腐蚀性的环境中工作，也能够有效的阻隔，真正意义上完成对电子产品的防腐蚀效果。
