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沈阳鹏程真空技术有限责任公司
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发布时间:2021-08-27
脉冲激光沉积介绍
脉冲激光沉积也被称为脉冲激光烧蚀(pulsed laser ablation,**),是一种利用激光对物体进行轰击,然后将轰击出来的物质沉淀在不同的衬底上,得到沉淀或者薄膜的一种手段。
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脉冲激光沉积的优点
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1. 易获得期望化学计量比的多组分薄膜,激光脉冲沉积设备哪家好,即具有良好的保成分性;
2. 沉积速率高,试验周期短,衬底温度要求低,制备的薄膜均匀;
3. 工艺参数任意调节,对靶材的种类没有限制;
4. 发展潜力巨大,具有较大的兼容性;
5. 便于清洁处理,可以制备多种薄膜材料。
脉冲激光沉积
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在一阶段,激光束聚焦在靶的表面。达到足够的高能量通量与短脉冲宽度时,靶表面的一切元素会快速受热,到达蒸发温度。物质会从靶中分离出来,而蒸发出来的物质的成分与靶的化学计量相同。物质的瞬时熔化率大大取决于激光照射到靶上的流量。熔化机制涉及许多复杂的物理现象,例如碰撞、热,与电子的激发、层离,以及流体力学。
在*二阶段,根据气体动力学定律,激光脉冲沉积设备多少钱,发射出来的物质有移向基片的倾向,并出现向前散射峰化现象。空间厚度随函数cosnθ而变化,而ngt;gt;1。激光光斑的面积与等离子的温度,对沉积膜是否均匀有重要的影响。靶与基片的距离是另一个因素,支配熔化物质的角度范围。亦发现,将一块障板放近基片会缩小角度范围。
*三阶段是决定薄膜质量的关键。放出的高能核素碰击基片表面,可能对基片造成各种破坏。高能核素溅射表面的部分原子,而在入射流与受溅射原子之间,建立了一个碰撞区。膜在这个热能区(碰撞区)形成后立即生成,激光脉冲沉积设备厂家,这个区域正好成为凝结粒子的较佳场所。只要凝结率比受溅射粒子的释放率高,热平衡状况便能够快速达到,由於熔化粒子流减弱,膜便能在基片表面生成。